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块状GaN晶体、c面GaN晶片及块状GaN晶体的制造方法

摘要

本发明提供c面的弯曲程度降低的块状GaN晶体。该块状GaN晶体具有选自相对于(0001)晶面倾斜0度以上且10度以下的面、及相对于(000‑1)晶面倾斜0度以上且10度以下的面中的主面,该主面是满足下述条件(i)及(ii)的特定主面A:(i)能够在该特定主面A上画出沿着第一方向延伸的长度80mm的假想线段、即第一线,且在该第一线上以5mm的间距并列的17个测定点间,使ω轴与该第一方向垂直而测定的该GaN晶体的(002)XRD摇摆曲线的峰值角度的最大值与最小值之差为0.05度以下;(ii)能够在该特定主面A上画出沿着与该第一方向垂直的第二方向延伸的长度80mm的假想线段、即第二线,且在该第二线上以5mm的间距并列的17个测定点间,使ω轴与该第二方向垂直而测定的该GaN晶体的(002)XRD摇摆曲线的峰值角度的最大值与最小值之差为0.05度以下。

著录项

  • 公开/公告号CN114026274A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-02-08

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 三菱化学株式会社;

    申请/专利号CN202080047247.2

  • 发明设计人 三川豊;冈野哲雄;

    申请日2020-06-30

  • 分类号C30B29/40(20060101);C30B7/10(20060101);

  • 代理机构11105 北京市柳沈律师事务所;

  • 代理人杨薇

  • 地址 日本东京都

  • 入库时间 2023-06-19 14:06:32

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-02-08

    公开

    国际专利申请公布

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