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公开/公告号CN114026274A
专利类型发明专利
公开/公告日2022-02-08
原文格式PDF
申请/专利权人 三菱化学株式会社;
申请/专利号CN202080047247.2
发明设计人 三川豊;冈野哲雄;
申请日2020-06-30
分类号C30B29/40(20060101);C30B7/10(20060101);
代理机构11105 北京市柳沈律师事务所;
代理人杨薇
地址 日本东京都
入库时间 2023-06-19 14:06:32
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2022-02-08
公开
国际专利申请公布
机译: GaN块状晶体基板的制造以及在GaN块状晶体基板上形成的半导体装置
机译:通过氨热法生长的GaN块状晶体以及在这些晶体上生长的GaN外延层的非接触电反射
机译:块状GaN衬底上的高性能GaN垂直鳍式功率晶体管
机译:1.5kV和2.2-m (Omega) tex-math> inline-formula> -cm (^ {2}) tex-math> inline-formula>垂直GaN晶体管
机译:在块状GaN衬底上通过具有厚GaN缓冲层的GaN栅极注入晶体管实现高速开关和无电流崩塌操作
机译:用于AlGaN / GaN和InAlN / GaN二极管以及在硅(111)衬底上生长的高迁移率晶体管的CMOS兼容氧化钌肖特基接触的研究。
机译:聚苯乙烯纳米光学光刻法制备的光子晶体结构P-GAN纳米棒的研究提高了INGAN / GAN绿色发光二极管光提取效率
机译:低位错密度块状GaN衬底上AlGaN / GaN高电子迁移率晶体管的可靠性:表面台阶边缘的含义
机译:GaN功率电子器件:从GaN-on-si横向晶体管到GaN-on-GaN垂直晶体管和GaN CmOs IC。