机译:SiC上氢嵌入石墨烯的二次离子质谱深度剖析
Institute of Electronic Materials Technology, Wolczynska 133, 01-919 Warsaw, Poland;
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CAMECA, 29 quai des Gresillons, 92622 Gennevilliers Cedex, France;
Institute of Electronic Materials Technology, Wolczynska 133, 01-919 Warsaw, Poland;
机译:使用高温激光显微镜观察和二次离子质谱深度分析对用于SiC溶液生长的Si-Ni助焊剂进行高通量筛选
机译:n型4H-SiC(0001)上氢嵌入石墨烯界面结构的核能级光电子能谱研究
机译:利用俄歇电子能谱深度剖析法确定在2英寸SiC晶片上生长的石墨烯层的厚度分布
机译:二次中性质谱法的深度剖面分析次级/微晶Si太阳能电池
机译:使用依赖于深度的阴极发光光谱法和二次离子质谱法研究氮化铝镓膜和镍/氮化铝镓肖特基二极管。
机译:焦耳热分解在4H-SiC上外延生长的多层石墨烯的拉曼光谱
机译:通过俄歇电子能谱深度剖析确定在2“ SiC晶片上生长的石墨烯层的厚度分布