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一种GaN基HEMT低温无金欧姆接触电极

摘要

本实用新型公开了一种GaN基HEMT低温无金欧姆接触电极,包括GaN基HEMT外延层,GaN基HEMT外延层内设置有GaN沟道层,电极包括在GaN基HEMT外延层的上表面从下到上依次排列设置第一金属层Ti、第二金属层Al和第三金属层TiW,或从下到上依次排列设置第一金属层Ti、第二金属层Al、第三金属层Ti和第四金属层TiW。还相应公开了该电极的制备方法。本实用新型有效降低GaN基HEMT欧姆接触的退火温度,改善AlGaN势垒层整体刻蚀造成的2DEG泄露和形成欧姆接触时的电流减少,降低了欧姆接触的形成难度,低温退火合金后的欧姆接触表面形貌及边缘更加平整。同时有助于降低GaN基HEMT器件的制造成本。

著录项

  • 公开/公告号CN215869395U

    专利类型实用新型

  • 公开/公告日2022-02-18

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN202023006193.1

  • 发明设计人 王洪;李先辉;

    申请日2020-12-11

  • 分类号H01L29/45(20060101);H01L21/28(20060101);H01L29/778(20060101);H01L21/335(20060101);

  • 代理机构44102 广州粤高专利商标代理有限公司;

  • 代理人江裕强

  • 地址 528400 广东省中山市火炬开发区中心城区祥兴路6号212房

  • 入库时间 2022-08-23 04:53:14

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