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Barrier tuning in thin PtSi/Si contacts

机译:薄PtSi / Si触点中的势垒调整

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摘要

PtSi/Si contacts were studied as a function of thickness. A change of Schottky barrier height up to 100 mV from its bulk value was detected when PtSi thickness decreased to 6 nm. One explanation is the quantum size effect, generally confirming theoretical predictions. This effect also results in an increase of contact resistance in Ohmic PtSi/p-Si contacts. Furthermore, the nanoscale PtSi thin layer presented a poor electron screen from the outside contact layer of Al. It was found that for PtSi > 50 nm, the contact properties of Al/PtSi/Si is unchanged by the presence of the Al layer.
机译:研究了PtSi / Si接触作为厚度的函数。当PtSi厚度减小到6 nm时,检测到肖特基势垒高度从其体积值变化到100 mV。一种解释是量子尺寸效应,通常可以证实理论预测。该效应还导致欧姆PtSi / p-Si触点的接触电阻增加。此外,纳米级PtSi薄层从Al的外部接触层呈现出不良的电子屏蔽。已经发现,对于> 50nm的PtSi,Al / PtSi / Si的接触性能由于Al层的存在而没有改变。

著录项

  • 来源
    《Applied Physics Letters》 |2006年第9期|p.093508.1-093508.3|共3页
  • 作者

    Yongping Ding; S. A. Campbell;

  • 作者单位

    Department of Electrical and Computer Engineering, University of Minnesota, Minneapolis, Minnesota 55455;

  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);美国《生物学医学文摘》(MEDLINE);
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类 应用物理学;计量学;
  • 关键词

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