Single Crystal Division, Kyocera Corporation, 1166-6 Nagatanino, Hebimizo-cho, Youkaichi, Shiga 527-8555, Japan;
interfaces; heterostructures; nanostructures; chemical vapor deposition (including plasma-enhanced CVD, MOCVD, etc.);
机译:使用化学剥离和室温直接晶片键合以及GaN晶片规模在ZnO缓冲蓝宝石上进行GaN晶片规模的MOVPE生长,从蓝宝石转移到玻璃基板的MOVPE GaN薄膜的结构和成分表征
机译:在GaN和蓝宝石衬底上进行基于GaN的激光二极管结构的MOVPE生长期间晶片表面温度的均匀性
机译:生长过程中原位热处理对MOVPE在蓝宝石衬底上生长的GaN外延层晶体质量的影响
机译:Sapphire底物的表面处理及其对Movpe的GaN生长初期的影响
机译:蓝宝石上氮化镓高温生长初期的研究
机译:通过基于H3PO4的蚀刻剂修饰微米尺寸的图案化蓝宝石衬底抑制侧壁GaN的初始生长
机译:HVPE和Movpe GaN在略带误导的蓝宝石基板上的增长
机译:低压金属有机化学气相沉积法研究基面蓝宝石和siC衬底上alN和GaN层初始生长的微观结构比较