您现在的位置: 首页> 研究主题> 微晶硅

微晶硅

微晶硅的相关文献在1989年到2022年内共计279篇,主要集中在无线电电子学、电信技术、电工技术、物理学 等领域,其中期刊论文90篇、会议论文40篇、专利文献341145篇;相关期刊44种,包括功能材料、新材料产业、太阳能等; 相关会议16种,包括第12届中国光伏大会暨国际光伏展览会(CPVC12)、中国可再生能源学会2011年学术年会、2010年新能源和节能技术学术交流研讨会等;微晶硅的相关文献由577位作者贡献,包括赵颖、耿新华、张晓丹等。

微晶硅—发文量

期刊论文>

论文:90 占比:0.03%

会议论文>

论文:40 占比:0.01%

专利文献>

论文:341145 占比:99.96%

总计:341275篇

微晶硅—发文趋势图

微晶硅

-研究学者

  • 赵颖
  • 耿新华
  • 张晓丹
  • 魏长春
  • 孙建
  • 熊绍珍
  • 侯国付
  • 任慧志
  • 朱锋
  • 薛俊明
  • 期刊论文
  • 会议论文
  • 专利文献

搜索

排序:

年份

    • 王喆
    • 摘要: 综述了目前国际国内上在非晶硅、微晶硅、纳米晶硅薄膜太阳能电池的研究进展,并展望了这些太阳能电池的发展.
    • 祝祖送; 张杰; 尹训昌; 易明芳; 闻军
    • 摘要: 研究了SiCl_4浓度对等离子体增强化学气相沉积(PECVD)系统中以SiCl_4/H_2为反应气体的微晶硅薄膜生长及光电特性的影响。结果表明,微晶硅薄膜的沉积速率和晶化率均随SiCl_4浓度的增加而增大,而晶粒平均尺寸在SiCl_4浓度小于65%时呈增大趋势,在SiCl_4浓度大于65%时呈减小趋势;此外,光照实验表明制备的微晶硅薄膜具有较稳定的微观结构,具有类稳恒光电导效应,且样品的电导率依赖于SiCl_4浓度的变化。此外,还讨论了Cl基基团在微晶硅薄膜生长过程中所起的作用。
    • 段国平; 陈俊领; 周德让; 韩俊鹤; 黄明举
    • 摘要: In order to reduce the "S-W effect" of amorphous silicon thin film solar cells and increase its photoelectric conversion efficiency, intrinsic amorphous silicon thin films prepared by plasma enhanced chemical vapov deposition were crystallized with KrF excimer laser. The crystalline effect of the crystallized films under different laser energy density and repeated frequency was characterized with Raman spectroscopy, the morphologies of the samples before and after the crystallization was studied by means of scanning electron microscope. It is shown that the crystallization effect became better with the increase of laser energy density, maximum value of crystallization rate was 76. 34% when the energy density reached 268. 54mJ/cm2 and the optimum energy density range was from 204. 99mJ/cm2 to 268. 54mJ/cm2 in which the surface of film was crystallized well. In the range of lHz ~ lOHz, the crystallization effect got better with the increase of laser repeation frequency. Microcrystalline and polycrystal particles appeared obviously after the crystallization so that a good crystallization effect was achieved.%为了减低非晶硅薄膜太阳能电池的光致衰减效应和提高其光电转换效率,用等离子体化学气相沉积系统制备了本征非晶硅薄膜,用波长为248nm的KrF准分子激光器激光晶化了非晶硅表层,用共焦显微喇曼测试技术研究了非晶硅薄膜在不同的激光能量密度和不同的频率下的晶化状态,并用扫描电子显微镜测试晶化前后薄膜的形貌.结果表明,随着激光能量密度的增大,薄膜晶化效果越来越好,能量密度达到268.54mJ/cm2时晶化效果最好,此时结晶比约为76.34%;最佳的激光能量密度范围是204.99mJ/cm2~268.54mJ/cm2,这时薄膜表面晶化良好;在1Hz ~ 1OHz范围内,激光频率越大晶化效果越好;晶化后薄膜明显出现微晶和多晶颗粒,从而达到了良好的晶化效果.
    • 方家; 李双亮; 许盛之; 魏长春; 赵颖; 张晓丹
    • 摘要: The ratio of I(H*α)/I(SiH*), obtained from the real time optical emission spectroscopy (OES) measurement in the high-rate mi-crocrystalline silicon deposition process, as a function of time is used to analyze the cause of increasing crystallinity along the growth direction. Hydrogen dilution gradient method which means silane concentration gradient and hydrogen flow gradient method is adopted to improve vertical structure uniformity of the material. High-quality microcrystalline material around 53%–62%of Xc can be pre-pared through silane concentration gradient compared with 55%–75%of Xc prepared in the traditional method. In the silane depleted cases, by increasing the hydrogen flow the longitudinal uniformity of the material can be effectively improved. The vertical crys-tallinity around 53%–60%can be obtained. This is mainly due to the increase of the hydrogen flow that makes the collision probability increased, as a result, electron temperature of plasma reduced. Thus, the decomposition of hydrogen decreases and the reaction of hydrogen annihilation is suppressed. At the same time, the influence of back diffusion of SiH4 is suppressed. The gradually increasing trend of the ratio of I(H*α)/I(SiH*) is controlled during the deposition of microcrystalline silicon film.%  通过光发射光谱监测高速沉积微晶硅薄膜过程中I(H*α)/I(SiH*)随沉积时间的变化趋势,分析高速率微晶硅薄膜纵向晶化率逐渐增大的原因。通过氢稀释梯度法,即硅烷浓度梯度和氢气流量梯度法来改善材料的纵向均匀性。结果表明:硅烷浓度梯度法获得的材料晶化率从沉积300 s时的53%增加到沉积600 s时的62%,相比于传统方式下纵向晶化率从55%到75%的变化有了明显的改善。在硅烷耗尽的情况下,增加氢气流量一方面增加了气体总流量,使得电子碰撞概率增加,电子温度降低,从而降低氢气的分解,抑制SiHx基团的放氢反应,同时背扩散现象也得到了一定的缓解,使得I(H*α)/I(SiH*)在沉积过程中逐渐增加的趋势有所抑制,所制备的材料的纵向晶化率在240 s后维持在53%-60%范围内,同样改善了薄膜的纵向结构。
    • 邓隐北 (编译); 张子亮(编译); 尚玉杰(编译)
    • 摘要: 为实现薄膜基板太阳能电池的高效率化,富士电机最近开发了利用微晶硅(μc—si)的太阳能电池。做晶硅太阳能电池需要在高速下制膜(desposition),尽管高速制膜与转换效率之间存在着折衷关系,但通过制膜方法与条件的改善,在4倍于初期的制膜速度下,达到了等于或高于初期开发阶段的高转换效率。如将这些技术应用于多结(multi-junction)太阳能电池中,则可达到比现有薄膜基板太阳能电池更高的稳定转换效率11.7%:
    • 牛新伟; 郁操; 程冰; 王明华; 朱鑫; 茅建峰; 陈振; 刘胜芳; 王晓飞
    • 摘要: 作为光伏的一个重要领域,硅基薄膜电池技术在过去5年有了长足的发展,特别是近期硅基叠层薄膜电池的引入和产业化更显著提高了薄膜电池的转换效率.如今前沿领域的硅基薄膜电池制造商都朝着商业化量产稳定效率10%迈进.过去几年里作为世界上少数几家仍在量产硅基薄膜电池的企业,正泰太阳能一直走在硅基薄膜技术创新及量产大面积组件(1.1×l.3m2)的最前沿,在薄膜电池、组件及组件能源输出方面都做了大量的研发工作.作为硅基薄膜电池的重要组成部分,电池的前后电极对电池表现起非常关键的作用.本文将主要探讨硅基非晶-微晶叠层薄膜电池前后电极的选择,对比研究了不同TCO前电极对电池表现的影响以及传统PVD金属背电极与TCO背电极在硅基叠层电池上的表现.
    • 陈阳洋; 雷青松; 曾祥斌; 何俊刚; 薛俊明; 孙小虎
    • 摘要: 采用甚高频等离子化学增强气相沉积系统(VHF-PECVD)制备器件质量级本征微晶硅薄膜,研究薄膜的光电性质和结晶性质.结果表明:随硅烷浓度增加,薄膜材料的光敏性增加,晶化率减小;辉光功率增加,薄膜材料的光敏性减小,晶化率增加.将本征微晶硅薄膜应用到微晶硅薄膜太阳电池中,测试电池的I-V特性,获得开路电压.结果表明:硅烷浓度增加,电池的开路电压增加;辉光功率增加,电池的开路电压减小.
    • 杨仕娥; 崔宗超; 郭巧能; 陈永生; 李艳阳; 卢景霄
    • 摘要: 采用基于有限元的数值模拟方法,研究了VHF-PECVD法制备微晶硅薄膜的等离子体放电和气相反应过程,模拟了放电功率对等离子体特性及气相化学的影响,并与光发射谱(OES)在线监测结果进行了比较。模拟结果表明:当放电功率从30 W增大至70 W时,等离子体中心区域的电子温度T e基本保持不变,电子浓度n e和等离子体电势Φ线性增大;气相中H和SiH3等基元浓度逐渐增大,二者的浓度比n H/n SiH3亦随功率单调增大,模拟结果与OES测量结果吻合的很好。最后,根据数值模拟结果,对实验上不同放电功率下微晶硅薄膜的生长特性进行了解释。
    • 侯国付; 薛俊明; 袁育杰; 张晓丹; 孙建; 陈新亮; 耿新华; 赵颖
    • 摘要: Our recent work on deposition and characterization of hydrogenated microcrystalline silicon (uc-Si:H) thin films and silicon thin film solar cells prepared by RF-PECVD under high-pressure-depletion conditions is summarized in this paper. Several key issues are studied in detail: 1) process windows for device-quality uc-Si:H thin films, 2) formation mechanism of amorphous silicon incubation layer and the effective methods to reduce the incubation layer thickness, 3) modification of crystalline fraction volume of intrinsic uc-Si:H layers and its influence on the device performance of uc-Si:H solar cells, 4) deposition of high conductive p-type I.tc-Si:H window layers with high crystalline fraction volume, and the influence of p-layer on the device performance. After solving the above key issues, a high efficiency of 8.16% is obtained for uc-Si:H sing-junction solar cell with intrinsic layer prepared by RF-PECVD under high-pressure-depletion conditions. When it is used as bottom cell in a-Si:H/uc-Si:H tandem solar cell, the efficiency of tandem cell reaches 11.61%.%报道了采用高压射频等离子体增强化学气相沉积(RF-PECVD)制备高效率单结微晶硅电池和非晶硅/微晶硅叠层电池时几个关键问题的研究结果,主要包括:1)器件质量级本征微晶硅材料工艺窗口的确定及其结构和光电性能表征;2)孵化层的形成机理以及减小孵化层的有效方法;3)氢稀释调制技术对本征层晶化率分布及其对提高电池性能的作用;4)高电导、高晶化率的微晶硅p型窗口层材料的获得,及其对减小微晶硅电池p/i界面孵化层厚度和提高电池性能的作用等.在解决上述问题的基础上,采用高压RF-PECVD制备的单结微晶硅电池效率达8.16%,非晶硅/微晶硅叠层电池效率11.61%.
    • 王海蓉
    • 摘要: 硅基薄膜太阳电池由于材料成本、转换效率等特点受到人们的关注,就非晶硅薄膜、多晶硅薄膜、微晶硅薄膜和非微叠层太阳电池的研究现状做了简要的分析.
  • 查看更多

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号