一种调控氧化铟锡表面能与功函数的含氟自组装单层膜及制备方法

摘要

本发明涉及一种调控氧化铟锡表面能与功函数的含氟自组装单层膜及制备方法。通过化学清洗和等离子处理，在平整的ITO基板上衍生出羟基；将处理后的基底浸入含氟自组装分子溶液中，室温下浸泡24小时，形成表面带有有机分子自组装单层膜的基底，将处理后的基底用甲苯或无水乙醇进行超声处理，去除物理吸附的自组装分子，用氮气吹干后在真空干燥条件下保存，得到调控氧化铟锡表面能与功函数的含氟自组装单层膜。本发明制备的自组装单层膜可以使ITO保持相对较低且恒定的表面能，同时改变表面功函数。修饰的ITO使材料更稳定并且与随后沉积的有机材料更兼容，有效功函数可以显著提高，在有机电致发光二极管领域具有广阔的应用前景。