射频离子源供电结构、射频离子源及真空镀膜机

摘要

本申请涉及一种射频离子源供电结构、射频离子源及真空镀膜机，所述供电结构包括：包括集成电路板，集成电路板上集成有控制电路、直流驱动模块、功放电路以及匹配网络；其中，直流驱动模块通过功放电路连接至匹配网络；控制电路连接直流驱动模块；匹配网络的输出端连接至射频线圈；控制电路控制直流驱动模块输出直流电源至功放电路，功放电路将直流电源转换为射频电输出匹配网络，匹配网络将射频电加载到射频线圈上；该技术方案，在集成电路板上集成控制电路、直流驱动模块、功放电路以及匹配网络；去除了功放电路与匹配网络之间的同轴线，从而减小射频在传输过程中产生的电磁波对外部器件的干扰，提升了射频离子源的工作效果。