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GaN缓冲层中的掺杂剂扩散调制

摘要

一种半导体晶体及其形成方法。该方法包括提供包含掺杂剂和III族元素的气体流、停止提供包含掺杂剂和III族元素的气体流降低温度、重新开始提供包含III族元素的气体流然后升高温度。

著录项

  • 公开/公告号CN102365763B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2015-04-22

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 宜普电源转换公司;

    申请/专利号CN201080014928.5

  • 发明设计人 罗伯特·比奇;赵广元;

    申请日2010-04-07

  • 分类号

  • 代理机构北京同立钧成知识产权代理有限公司;

  • 代理人臧建明

  • 地址 美国加利福尼亚州

  • 入库时间 2022-08-23 09:24:52

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2015-04-22

    授权

    授权

  • 2012-05-23

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 33/00 申请日:20100407

    实质审查的生效

  • 2012-02-29

    公开

    公开

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