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公开/公告号CN102365763B
专利类型发明专利
公开/公告日2015-04-22
原文格式PDF
申请/专利权人 宜普电源转换公司;
申请/专利号CN201080014928.5
发明设计人 罗伯特·比奇;赵广元;
申请日2010-04-07
分类号
代理机构北京同立钧成知识产权代理有限公司;
代理人臧建明
地址 美国加利福尼亚州
入库时间 2022-08-23 09:24:52
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2015-04-22
授权
2012-05-23
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 33/00 申请日:20100407
实质审查的生效
2012-02-29
公开
机译: GaN缓冲层中的掺杂剂扩散调制。
机译: GaN缓冲层中的掺杂剂扩散调制
机译:HT-AlN缓冲层上a面GaN中各向异性晶体的调制
机译:接近无应变的GaN兼容缓冲层上GaN外延层中的超低穿线位错密度及其在异质外延LED中的应用
机译:Car-Parrinello分子动力学在富Ga GaN缓冲层中缓解GaN生长层应力中的应用
机译:GaN衬底与无C掺杂GaN缓冲层的GaN衬底侧栅调制响应的比较
机译:通过异质外延GaN薄膜中的缓冲层控制应力和缺陷
机译:通过将p型掺杂剂添加到金属化层中通过将p型掺杂剂添加到P-GaN中的欧姆特性
机译:铍掺杂GaN缓冲层对外延alGaN / GaN异质结构电子性质的邻近效应