基于AlN基板的p沟道增强型GaN/AlN异质结场效应管及制备方法

摘要

本发明涉及一种基于AlN基板的p沟道增强型GaN/AlN异质结场效应管及制备方法，该场效应管包括自下而上依次层叠设置的衬底、AlN层、本征GaN层和p+GaN层；源电极，设置在所述p+GaN层上；漏电极，设置在所述p+GaN层上，且与所述源电极相对设置；n‑GaN层，设置在所述本征GaN层和所述p+GaN层的内部，且位于所述源电极和所述漏电极之间；栅电极，设置在所述n‑GaN层上。本发明的基于AlN基板的p沟道增强型GaN/AlN异质结场效应管，在GaN/AlN异质结上设置有n‑GaN层，通过调节n‑GaN层的掺杂浓度和生长厚度，耗尽p+GaN层中的空穴，形成增强型器件，且阈值电压可由n‑GaN的厚度和掺杂浓度控制。