法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2019-11-08
发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):G02B5/18 申请公布日:20161109 申请日:20160602
发明专利申请公布后的驳回
2016-12-07
实质审查的生效 IPC(主分类):G02B5/18 申请日:20160602
实质审查的生效
2016-11-09
公开
公开
机译: 极紫外曝光用掩模,极紫外曝光用掩模坯料,极紫外曝光用掩模的制造方式以及多层膜
机译: 多层反射式极紫外石棺罩的制造方法-rohlin e
机译: 多层反射式极紫外光刻技术的面膜空白