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周斯卡; 王晓强; 李浩川; 黄秋实; 蒋励; 张众; 朱京涛; 王占山;
上海市激光学会;
镁硅多层膜; 光学性能; 界面质量; 界面工程法; 性能优化;
机译:多层涂层的性能与金属层的微观结构有关。 Mo / Si多层膜在极紫外和X射线范围内的表征和光学性质
机译:基于多目标进化算法的周期性极紫外多层膜表征
机译:B_4C / CeO_2多层膜在6.x nm极紫外波长下的沉积和表征
机译:减少和补偿用于极紫外光刻的高反射多层膜中膜应力的研究进展
机译:磁性多层膜的超快动力学:极紫外和软X射线光谱区域中的磁光光谱和共振散射
机译:Ta / Pd / CoFeMnSiSi / MgO / Pd多层膜的垂直磁各向异性和加氢诱导的磁变化
机译:B4C / CeO2多层膜在6.x nm极紫外波长下的沉积和表征
机译:基于铍的多层膜用于垂直入射的极紫外反射
机译:通过控制结构因素制造用于极紫外光刻的Mo / Si反射多层膜的方法
机译:极紫外曝光用掩模,极紫外曝光用掩模坯料,极紫外曝光用掩模的制造方式以及多层膜
机译:形成具有小粒径结构的多层WSix膜的半导体器件的方法,以及具有在其上形成有多层WSix膜的多晶硅层的半导体器件
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