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新型具有含氟碳负离子结构的盐及其衍生物、光产酸剂以及使用其的抗蚀材料和图案形成方法

摘要

本发明提供一种具有下述通式(1)所示的含氟碳负离子结构的酸或具有含氟碳负离子结构的盐。其中,本发明可提供光产酸剂以及含有这样的光产酸剂的抗蚀材料,通过使用产生该酸的化学增幅抗蚀材料用的光产酸剂,对ArF准分子激光等为高感光度、所产生的酸(光产酸)的酸性度充分高、且具有对抗蚀溶剂高的溶解性和对树脂优异的相容性。

著录项

  • 公开/公告号CN101970400A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2011-02-09

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中央硝子株式会社;

    申请/专利号CN200980108659.6

  • 申请日2009-03-10

  • 分类号C07C317/18(20060101);C07C381/12(20060101);C08F20/26(20060101);G03F7/004(20060101);G03F7/039(20060101);H01L21/027(20060101);

  • 代理机构北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人刘新宇;李茂家

  • 地址 日本山口县

  • 入库时间 2023-12-18 01:52:15

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2015-04-22

    授权

    授权

  • 2011-03-23

    实质审查的生效 IPC(主分类):C07C317/18 申请日:20090310

    实质审查的生效

  • 2011-02-09

    公开

    公开

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