一种新型掩膜材料——光成像抗蚀抗电镀油墨

摘要

光成像抗蚀抗电镀油墨简称湿膜,是世界上80年代末的新产品,我国于1992年开始研制,现已经批量生产。随着电子工业和装饰业的迅速发展,其应用范围不断扩大,销售量也在不断增加。 在应用领域中湿膜在印制板的行业用量最大,多用于单面板、多层板的内层掩膜和有金属化孔双面印制板的抗电镀掩膜。