机译:PECVD技术沉积氧化硅(SiO_x,x <2)薄膜的光学性质
oxides; plasma deposition; optical properties; atomic force microscopy; photoluminescence;
机译:PECVD技术沉积氧化硅(SiO_x,x <2)薄膜的光学性质
机译:硅烷流速对通过VHF PECVD技术生长的硅薄膜的结构,电学和光学性质的影响
机译:PECVD沉积在晶体硅上的超薄非晶硅薄膜的光学带隙
机译:沉积条件对ECR-PECVD沉积SiO_x薄膜光学和组成特性的影响
机译:沉积的氧化硅的电,化学和热行为:PECVD,ECR和溅射膜之间的比较。
机译:射频等离子体增强化学气相沉积(RF PECVD)反应器中样品高度对氮化硅薄膜光学性能和沉积速率的影响
机译:使用直流等离子体增强化学气相沉积(DC-PECVD)技术沉积的氢化非晶碳(a-C:H)薄膜的结构和光学性质