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Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI pt.1; 20040414-20040416; Yokohama; JP
Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI pt.1; 20040414-20040416; Yokohama; JP
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1.
Investigations on microloading effect: A parallel approach to PGSD (Proximity Gap Suction Development)
机译:
微负载效应的研究:PGSD的并行方法(接近间隙抽吸开发)
作者:
Daniel Courboin
;
Jong Woo Choi
;
Sang Hyun Jung
;
Seung Hee Back
;
Lee Ju Kim
;
Chang Nam Ahn
;
Hong Seok Kim
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI pt.1; 20040414-20040416; Yokohama; JP》
|
2004年
关键词:
photomask;
microloading;
novolak;
megasonic;
developer temperature;
developer concentration;
development time;
2.
Nano-scale dimensional focused ion beam repair of quartz defects on 90 nm node alternating aperture phase shift masks
机译:
纳米尺度聚焦离子束修复90 nm节点交替孔径相移掩模上的石英缺陷
作者:
Tod Robinson
;
Anthony Graupera
;
Troy Morrison
;
Marcus Ramstein
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI pt.1; 20040414-20040416; Yokohama; JP》
|
2004年
关键词:
alternating aperture phase shift mask repair;
AAPSM;
focused ion beam mask repair;
FIB;
stylus nano-profilometry;
SNP;
quartz bump repair;
3.
Mask patterning process using the negative tone chemically amplified resist TOK OEBR-CAN024
机译:
使用负性化学放大抗蚀剂TOK OEBR-CAN024进行掩模构图工艺
作者:
Mathias Irmscher
;
Dirk Beyer
;
Joerg Butschke
;
Peter Hudek
;
Corinnna Koepernik
;
Jason Plumhoff
;
Emmanuel Rausa
;
Mitsuro Sato
;
Peter Voehringer
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI pt.1; 20040414-20040416; Yokohama; JP》
|
2004年
关键词:
mask process;
e-beam;
OEBR-CAN024;
CAR;
negative tone;
proximity correction;
4.
INTERFEROMETRIC-PROBE ABERRATION MONITORS: AERIAL IMAGE AND IN-RESIST PERFORMANCE
机译:
干涉探针畸变监测仪:航空图像和抗阻性能
作者:
Garth C. Robins
;
Mircea Dusa
;
Bernd Geh
;
Andrew R. Neureuther
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI pt.1; 20040414-20040416; Yokohama; JP》
|
2004年
关键词:
aberration;
image;
phase-shifting mask;
interference;
aberration monitor;
zernike aberrations;
printable artifact;
high-NA;
resist image;
focus monitor;
intensity imbalance;
illumination;
5.
OASIS - based unification of mask data representation
机译:
基于OASIS的掩码数据表示的统一
作者:
Emil Sahouria
;
Steffen Schulze
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI pt.1; 20040414-20040416; Yokohama; JP》
|
2004年
关键词:
GDSII stream;
OASIS;
integrated circuit layout;
mask making;
photomask;
data format;
variable shaped beam;
6.
Improving photomask surface properties through a combination of dry and wet cleaning steps
机译:
通过干法和湿法清洁步骤的组合改善光掩模的表面性能
作者:
Florence Eschbach
;
Daniel Tanzil
;
Mike Kovalchick
;
Uwe Dietze
;
Min Liu
;
Fei Xu
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI pt.1; 20040414-20040416; Yokohama; JP》
|
2004年
7.
Imaging Properties of a Leading-Edge DUV Laser Generated Photomask
机译:
前沿DUV激光产生的光掩模的成像特性
作者:
Curt Jackson
;
Peter Buck
;
Sarah Cohen
;
Vishal Garg
;
Jason Hickethier
;
Charles Howard
;
Robert Kiefer
;
Matthew Lamantia
;
John Manfredo
;
James Tsou
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI pt.1; 20040414-20040416; Yokohama; JP》
|
2004年
8.
Improvement of unified mask data formats for EB writers
机译:
改善EB作家的统一遮罩数据格式
作者:
Toshio Suzuki
;
Junji Hirumi
;
Nobuyuki Yoshioka
;
Yutaka Hojyo
;
Yuichi Kawase
;
Shigehiro Hara
;
Koki Kuriyama
;
Morihisa Hoga
;
Satoshi Watanabe
;
Hidemichi Kawase
;
Tomoko Kamimoto
;
Kokoro Kato
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI pt.1; 20040414-20040416; Yokohama; JP》
|
2004年
关键词:
MDP;
data format;
NEO;
MALY;
VSB;
EB;
mask;
jobdeck;
9.
Optical Mask inspection Strategy for 65 nm node and beyond
机译:
适用于65 nm及更高节点的光学掩模检查策略
作者:
Dong-Hoon Chung
;
Katsumi Ohira
;
Nobuyuki Yoshioka
;
Kenichi Matsumura
;
Toru Tojo
;
Masao Otaki
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI pt.1; 20040414-20040416; Yokohama; JP》
|
2004年
10.
Spin-Stream Develop Process for ZEP resist
机译:
ZEP抗蚀剂的自旋流显影工艺
作者:
Jae-Cheon Shin
;
Tae-joong Ha
;
Bo K. Choi
;
Oscar Han
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI pt.1; 20040414-20040416; Yokohama; JP》
|
2004年
关键词:
spin spray;
low temperature spin stream;
CD uniformity;
11.
Results from a new die-to-database reticle inspection platform
机译:
新的芯片到数据库标线检查平台的结果
作者:
William H. Broadbent
;
James N. Wiley
;
Zain K. Saidin
;
Sterling G. Watson
;
David S. Alles
;
Larry S. Zurbrick
;
Chris A. Mack
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI pt.1; 20040414-20040416; Yokohama; JP》
|
2004年
关键词:
DUV;
193nm;
248nm;
reticle;
defect;
inspection;
sensitivity;
flux;
OPC;
SRAf;
12.
The influence of spatio-temporal variation of temperature distribution in a polymer solution on a flat substrate on formation of polymer film's thickness distribution during drying process - based on results of simulation of the modified model
机译:
基于改进模型的仿真结果,在干燥过程中,在平坦基板上的聚合物溶液中温度分布的时空变化对聚合物膜厚度分布的形成的影响
作者:
Hiroyuki Kagami
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI pt.1; 20040414-20040416; Yokohama; JP》
|
2004年
13.
Alternating Aperture Phase Shift Mask Process Using E-Beam Lithography for the Second Level
机译:
使用电子束光刻技术进行第二级交替孔径相移掩模工艺
作者:
Corinna Koepernik
;
Joerg Butschke
;
Dirk Beyer
;
Mathias Irmscher
;
Bernd Leibold
;
Emmanuel Rausa
;
Rainer Plontke
;
Jason Plumhoff
;
Peter Voehringer
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI pt.1; 20040414-20040416; Yokohama; JP》
|
2004年
关键词:
second level imaging;
E-beam;
PSM;
CAR;
FEP171;
conductive layer;
ESPACER 300Z;
14.
Investigation of Cr Defect in High Cr Load Logic Mask
机译:
高铬负载逻辑掩模中铬缺陷的研究
作者:
Ho Yong Jung
;
Sung Jin Choi
;
Mun Sik Kim
;
Dong Wook Lee
;
Jun Sik Lee
;
Oscar Han
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI pt.1; 20040414-20040416; Yokohama; JP》
|
2004年
关键词:
Cr surface damage;
high Cr load logic mask;
15.
Advanced Photomask Repair Technology for 65nm Lithography (1)
机译:
用于65nm光刻的先进光掩模修复技术(1)
作者:
Yasutoshi Itou
;
Yoshiyuki Tanaka
;
Nobuyuki Yoshioka
;
Yasuhiko Sugiyama
;
Ryoji Hagiwara
;
Garuo Takahashi
;
Osamu Takaoka
;
Junichi Tashiro
;
Katsumi Suzuki
;
Mamoru Okabe
;
Syuichi Kikuchi
;
Atsushi Uemoto
;
Anto Yasaka
;
Tatsuya Adachi
;
Naoki Nishida
;
Toshiya Oz
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI pt.1; 20040414-20040416; Yokohama; JP》
|
2004年
关键词:
65 nm generation;
157 lithography;
193nm lithography;
FIB repair system;
EB repair system;
16.
257nm wavelength mask inspection for 65nm node reticles
机译:
用于65nm节点掩模版的257nm波长掩模检查
作者:
Ryoji Yoshikawa
;
Hiroyuki Tanizaki
;
Tomohide Watanabe
;
Hiromu Inoue
;
Riki Ogawa
;
Satoshi Endo
;
Masami Ikeda
;
Yoichiro Takahashi
;
Hidehiro Watanabe
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI pt.1; 20040414-20040416; Yokohama; JP》
|
2004年
关键词:
inspection;
65nm node;
defect;
OPC;
assisting feature;
17.
0.13/0.15 μm Production Reticle Process Window Qualification Procedure in a 200mm Manufacturing Fab
机译:
200mm制造工厂中的0.13 / 0.15μm生产掩模版工艺窗口资格鉴定程序
作者:
Zih-Wen Chang
;
Chen-MingWu
;
Mabel Mo
;
Chin-Chung Shieh
;
D.S. Cheng
;
Chun-Chien Chen
;
Richard Y. Yang
;
David W. Randall
;
Wen-Cheng Yu
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI pt.1; 20040414-20040416; Yokohama; JP》
|
2004年
关键词:
PWQ;
process window qualification;
"marginal features";
reticle;
RET;
lithography;
18.
Achieving 65 nm design rule dry etch performance: A study of CD bias, uniformity, and linearity on binary chrome photomasks
机译:
实现65 nm设计规则的干法蚀刻性能:对二元铬光掩模上CD偏压,均匀性和线性的研究
作者:
J. Plumhoff
;
C. Constantine
;
B. Reelfs
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI pt.1; 20040414-20040416; Yokohama; JP》
|
2004年
19.
A trial to quantify and classify process non-uniformity into baking and development
机译:
将过程不均匀性量化和分类为烘焙和显影的试验
作者:
Hideo Kobayashi
;
Tomohiro Shirane
;
Atsuo Imai
;
Keiji Tsukuda
;
Shoji Yamamoto
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI pt.1; 20040414-20040416; Yokohama; JP》
|
2004年
20.
A photomask defect evaluation system
机译:
光掩模缺陷评估系统
作者:
Eiji Yamanaka
;
Shingo Kanamitsu
;
Takashi Hirano
;
Satoshi Tanaka
;
Takahiro Ikeda
;
Osamu Ikenaga
;
Tsukasa Kawashima
;
Syogo Narukawa
;
Hideaki Kobayashi
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI pt.1; 20040414-20040416; Yokohama; JP》
|
2004年
关键词:
defect evaluation;
SEM;
extracting edges;
litho-simulation;
repair;
21.
Full-chip Manufacturing Reliability Check Implementation for 90nm and 65nm Nodes Using CPL~(TM) and DDL~(TM)
机译:
使用CPL〜(TM)和DDL〜(TM)对90nm和65nm节点进行全芯片制造可靠性检查
作者:
Michael Hsu
;
Tom Laidig
;
Kurt E. Wampler
;
Stephen Hsu
;
Xuelong Shi
;
J. Fung Chen
;
Doug Van Den Broeke
;
Frank Hsieh
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI pt.1; 20040414-20040416; Yokohama; JP》
|
2004年
关键词:
CPL;
DDL;
manufacturing reliability check;
MRC;
22.
Evaluation of Mask Quality Control Methods addressing Progressive Haze Issues
机译:
评估口罩质量控制方法以解决渐进的雾霾问题
作者:
Kaustuve Bhattacharyya
;
Chris Aquino
;
William Volk
;
Norihiko Takatsu
;
Takao Konishi
;
Yoshinori Nagaoka
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI pt.1; 20040414-20040416; Yokohama; JP》
|
2004年
关键词:
crystal growth;
haze;
fab inspection;
mask;
23.
FIB Mask Repair Technology for Electron Projection Lithography
机译:
电子投影光刻的FIB掩模修复技术
作者:
Yoh Yamamoto
;
Masakatsu Hasuda
;
Hiroyuki Suzuki
;
Makoto Sato
;
Osamu Takaoka
;
Hiroshi Matsumura
;
Noboru Matsumoto
;
Kouji Iwasaki
;
Ryouji Hagiwara
;
Katsumi Suzuki
;
Yutaka Ikku
;
Kazuo Aita
;
Takashi Kaito
;
Tatsuya Adachi
;
Anto Yasaka
;
Jirou Yamamoto
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI pt.1; 20040414-20040416; Yokohama; JP》
|
2004年
关键词:
stencil mask;
repair;
FIB;
EPL;
24.
Chemical Characteristics of Negative-tone Chemically Amplified Resist For Advanced Mask Making
机译:
用于高级面罩制造的负性化学放大抗蚀剂的化学特性
作者:
Kazumasa Takeshi
;
Naoko Ito
;
Daisuke Inokuchi
;
Yasushi Nishiyama
;
Yuichi Fukushima
;
Yasuhiro Okumoto
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI pt.1; 20040414-20040416; Yokohama; JP》
|
2004年
关键词:
chemically amplified resist;
negative-tone;
chemical characteristics;
mask;
25.
Decrease of Chrome Residue on MoSiON in Embedded Attenuated-PSM Processing
机译:
嵌入式衰减PSM工艺中MoSiON上铬残留量的减少
作者:
Yong-Dae Kim
;
Dae-Woo Kim
;
Dong-Seok Lee
;
Pil-Jin Jang
;
Hyuk-Joo Kwon
;
Hyun-Jun Cho
;
Jin-Min Kim
;
Sang-Soo Choi
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI pt.1; 20040414-20040416; Yokohama; JP》
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2004年
关键词:
EAPSM;
chrome residue;
phase shift effect;
carbon;
plasma;
26.
Correlation of Inspection Methods in Characterizing Nanomachined Photomask Repairs
机译:
表征纳米加工光掩模修复的检查方法的相关性
作者:
Jeffrey Csuy
;
Ronald Bozak
;
Lee Terrill
;
Roy White
;
Naoki Nishida
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI pt.1; 20040414-20040416; Yokohama; JP》
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2004年
27.
Surface organic compound contamination as a significant factor in substrate transmittance reduction in the VUV region
机译:
表面有机化合物污染是影响VUV区域基材透射率降低的重要因素
作者:
Kyoko Sakai
;
Yo Sakata
;
Yuichi Fukushima
;
Yasuhiro Okumoto
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI pt.1; 20040414-20040416; Yokohama; JP》
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2004年
关键词:
VUV;
transmittance;
organic compound contamination;
28.
The Guideline of Reticle Data Management
机译:
标线数据管理指南
作者:
Norihiko Miyazaki
;
N. Iriki
;
M. Homma
;
T. Sato
;
M. Mori
;
T. Imoriya
;
T. Onodera
;
T. Matsuda
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI pt.1; 20040414-20040416; Yokohama; JP》
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2004年
关键词:
SoC business;
SEMI standard;
IT;
XML;
standardization RDM;
efficiency RDM;
optimization RDM;
interface data handling;
design;
reticle;
wafer;
pattern data;
EDA;
UDM;
linkage;
29.
The Judgment Criteria of the Halftone Pinhole Defects
机译:
半色调针孔缺陷的判断标准
作者:
Kyong-Mun Shin
;
Dae-Woo Kim
;
Jeong-Kwan Lee
;
Dong-Heok Lee
;
Jin-Min Kim
;
Sang-Soo Choi
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI pt.1; 20040414-20040416; Yokohama; JP》
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2004年
30.
Global CD Uniformity Improvement Using Dose Modulation and Pattern Correction of Pattern Density-Dependent and Position- Dependent Errors
机译:
使用剂量调制和图案校正,对图案密度相关和位置相关的误差进行全局CD一致性改善
作者:
Chia-Jen Chen
;
Hsin-Chang Lee
;
Lee-Chin Yeh
;
Kai-Chung Liu
;
Ta-Cheng Lien
;
Yi-Chun Chuo
;
Hung-Chang Hsieh
;
Burn J. Lin
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI pt.1; 20040414-20040416; Yokohama; JP》
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2004年
关键词:
dose assignment;
fogging effect;
loading effect;
aberration compensation and mask CD uniformity;
31.
Global CD uniformity improvement for CAR masks by adaptive post-exposure bake with CD measurement feedback
机译:
通过具有CD测量反馈的自适应曝光后烘烤来提高CAR面罩的整体CD均匀性
作者:
Lothar Berger
;
Werner Saule
;
Peter Dress
;
Thomas Gairing
;
Chia-Jen Chen
;
Hsin-Chang Lee
;
Hung-Chang Hsieh
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI pt.1; 20040414-20040416; Yokohama; JP》
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2004年
关键词:
global CD uniformity;
65nm node;
chemically amplified resist (CAR);
post-exposure bake (PEB);
multi-zone hotplate;
32.
An analysis of in-process pattern inspection benefit to cost relationship
机译:
流程中模式检查的收益与成本关系分析
作者:
Larry Zurbrick
会议名称:
《》
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2004年
关键词:
reticle inspection;
cost analysis;
33.
An agile mask data preparation and writer dispatching approach
机译:
敏捷蒙版数据准备和编写程序分配方法
作者:
Chih-tung Hsu
;
Y. S. Chen
;
S. C. Hsin
;
L. C. Tuo
;
Steffen Schulze
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI pt.1; 20040414-20040416; Yokohama; JP》
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2004年
关键词:
GOSII;
OASIS;
mask data preparation;
34.
Evaluation, Reduction and Monitoring of Progressive Defects on 193nm Reticles for Low-k1 Process
机译:
低k1工艺中193nm掩模版上渐进缺陷的评估,减少和监测
作者:
Chia Hwa Shiao
;
Chien Chung Tsai
;
Tony Hsu
;
Steve Tuan
;
Doris Chang
;
Richard Chen
;
Frank Hsieh
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI pt.1; 20040414-20040416; Yokohama; JP》
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2004年
关键词:
progressive defects;
haze;
precipitates;
crystal growth;
contamination;
inspection;
mask cleaning process;
35.
Comparative study of Two Negative CAR Resists EN-024M and NEB 31
机译:
两种汽车抗负性EN-024M和NEB 31的比较研究
作者:
Ki-Ho Baik
;
Robert Dean
;
Homer Lem
;
Stephen Osborne
;
Mark Mueller
;
Damon Cole
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI pt.1; 20040414-20040416; Yokohama; JP》
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2004年
关键词:
CAR;
OPC;
negative tone resist;
mask;
LER;
develop;
side-wall angle;
resolution;
RTPEC;
dry etching;
36.
Demonstration of Damage-Free Mask Repair Using Electron Beam-induced Processes
机译:
演示使用电子束诱导工艺的无损伤口罩修复
作者:
Ted Liang
;
Alan Stivers
;
Michael Penn
;
Dan Bald
;
Chetan Sethi
;
Volker Boegli
;
Michael Budach
;
Klaus Edinger
;
Petra Spies
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI pt.1; 20040414-20040416; Yokohama; JP》
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2004年
关键词:
mask repair;
electron beam induced etch and deposition;
electron beam mask repair;
37.
CD uniformity Improvement by Loading Effect Correction (LEC ) Function for 90 nm reticle
机译:
通过加载效应校正(LEC)功能改善90 nm标线的CD均匀性
作者:
Colbert Lu
;
Torey Huang
;
Shone Lee
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI pt.1; 20040414-20040416; Yokohama; JP》
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2004年
关键词:
HL-950M;
dose modulation;
loading effect;
uniformity;
critical dimension;
38.
Analysis of mask CD error by dose modulation for fogging effect
机译:
雾量效应的剂量调制分析口罩CD误差
作者:
Ho-June Lee
;
Seung-Hune Yang
;
Byung-Gook Kim
;
Seong-Yong Moon
;
Seong-Woon Choi
;
Hee-Sun Yoon
;
Woo-Sung Han
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI pt.1; 20040414-20040416; Yokohama; JP》
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2004年
关键词:
fogging;
loading;
dose modulation;
electron beam simulator;
development loading;
39.
Mask RD Activities at the Advanced Mask Technology Center
机译:
先进口罩技术中心的口罩研发活动
作者:
M. Dilger
;
J.H. Peters
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI pt.1; 20040414-20040416; Yokohama; JP》
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2004年
关键词:
mask technology;
RET;
pellicle;
etch;
repair;
EUV;
absorber;
reflectance;
40.
Patterning Strategy for Low K_1 Lithography
机译:
低K_1光刻的图案化策略
作者:
David Hwang
;
Wen-Hao Cheng
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI pt.1; 20040414-20040416; Yokohama; JP》
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2004年
关键词:
mask;
iithography;
RET;
etch;
OPC;
layout restriction;
integrated patterning;
low K_1;
41.
New Approach for Quartz Dry Etching Using Hardmask for Sub-90nm Photomask Technology
机译:
90纳米以下光掩模技术使用硬掩模进行石英干蚀刻的新方法
作者:
Sungmin Huh
;
Ki-Sung Yoon
;
Il-Yong Jang
;
Jae-Hee Hwang
;
In-Kyun Shin
;
Seoung-Woon Choi
;
Woo-Sung Han
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI pt.1; 20040414-20040416; Yokohama; JP》
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2004年
关键词:
photomask;
quartz;
dry etching RET;
mask fabrication;
42.
Quartz etch optimization
机译:
石英蚀刻优化
作者:
Banqiu Wu
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI pt.1; 20040414-20040416; Yokohama; JP》
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2004年
关键词:
quartz;
etch;
fused silica;
photomask;
AAPSM;
CPL;
43.
Photomask Clear Defects Repair Using Ultrafast Laser Technology
机译:
使用超快激光技术修复光罩透明缺陷
作者:
Guy Ben-Zvi
;
Nikolay Guletsky
;
Vladimir Dmitriev
;
Sergey Oshemkov
;
Eitan Zait
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI pt.1; 20040414-20040416; Yokohama; JP》
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2004年
44.
Photomask Quality Assessment Solution for 90 nm Technology Node
机译:
90 nm技术节点的光掩模质量评估解决方案
作者:
Katsumi Ohira
;
D.H. Paul Chung
;
Nobuyuki Yoshioka
;
Motonari Tateno
;
Ken-ichi. Matsumura
;
Jiunn-Hung Chen
;
Gerard Luk-Pat
;
Norio Fukui
;
Yoshio Tanaka
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI pt.1; 20040414-20040416; Yokohama; JP》
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2004年
关键词:
photomask;
reticle;
aerial image simulation;
attenuated PSM;
KrF;
ArF;
90 nm technology node;
resolution enhancement technology;
mask quality assurance;
defect inspection;
45.
Improvement of Develop Loading Effect in FEP-171 Process
机译:
FEP-171工艺中显影负荷效果的改善
作者:
Tae-Joong Ha
;
Young-Mo Lee
;
Bo K. Choi
;
Yong-Kyoo Choi
;
Oscar Han
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI pt.1; 20040414-20040416; Yokohama; JP》
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2004年
关键词:
photomask;
FEP-171;
develop loading effect;
double puddle development;
dissolution rate;
46.
Investigation of quartz defect printability at the 65nm node
机译:
在65nm节点处研究石英缺陷的可印刷性
作者:
Eric Poortinga
;
Darren Taylor
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI pt.1; 20040414-20040416; Yokohama; JP》
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2004年
关键词:
AAPSM;
quartz defects;
AIMS;
47.
Investigation of sub-pellicle defect formation at KrF Lithography
机译:
KrF平版印刷术中亚膜层缺陷形成的研究
作者:
Junsik Lee
;
Dongwook Lee
;
Munsik Kim
;
Hoyong Jung
;
Oscar Han
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI pt.1; 20040414-20040416; Yokohama; JP》
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2004年
关键词:
growing defects;
halftone phase shift mask;
pellicle frame;
ion chromatography;
reticle;
48.
Progressive Architecture of Mask-Supply Chain and Integrated Operation System supporting Extreme-QTAT Device Manufacturing
机译:
面罩供应链的渐进架构和支持Extreme-QTAT设备制造的集成操作系统
作者:
Masayoshi Mori
;
Isao Miyazaki
;
Ken Fujimoto
;
Kunihiro Hosono
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI pt.1; 20040414-20040416; Yokohama; JP》
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2004年
关键词:
SCM;
MES;
QTAT;
mask operation;
49.
Root cause analysis for crystal growth at ArF excimer laser lithography
机译:
ArF准分子激光光刻技术中晶体生长的根本原因分析
作者:
Hiroyuki Ishii
;
Atsushi Tobita
;
Yusuke Shoji
;
Hiroko Tanaka
;
Akihiko Naito
;
Hiroyuki Miyashita
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI pt.1; 20040414-20040416; Yokohama; JP》
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2004年
关键词:
crystal growth;
haze;
reticle cleaning;
ion chromatography;
exposure environment;
storage;
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