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娄芝芳; 许蓝;
不详;
集成电路; 化学汽相淀积; 真空; 低温;
机译:光化学汽相淀积和热线电池法低温生长硅膜中气相反应的比较
机译:Ga_xSn_(1-x)O薄膜的雾化学汽相淀积法特性评估
机译:通过等离子体化学汽相沉积法在氢化非晶碳膜中掺入硼原子提高导电性及其电化学性能
机译:碱汽相细胞磁法及其在低场弛豫和扩散法中的应用。
机译:通过超高真空化学气相沉积法生长的Si / SiGe量子阱中的阱间耦合效应
机译:真空紫外直接激发型光化学汽相淀积法研究SIO2薄膜的低温生长
机译:用于去除和回收汽相汞的新方法。每月技术进步报告,1995年11月1日至11月30日
机译:用于电化学汽相淀积的原始材料汽化器,电化学汽相淀积装置和使用该装置的固态电解膜形成方法
机译:等离子体化学汽相淀积装置及采用该装置的化学汽相淀积方法及装置内部的清洗方法
机译:用等离子体化学汽相淀积法形成沉积膜的装置及使用它的沉积膜形成方法
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