Shanghai Huahong NEC Electronics Company, Ltd.;
Shanghai Integrated Circuit Research and Development Center;
double exposure; two-dimensional; 32 nm node; photolithographic fidelity; optical proximity correction;
机译:“双重曝光方法”:一种新颖的光刻工艺,用于制造柔性有机场效应晶体管和电路
机译:MALDI-TOF / TOF质谱中基于二维LC映射和依赖于基质的选择性裂解方法,通过系统的糖组学方法鉴定了α-甘露糖苷酶II / IIx双无效胚胎中异常的N-聚糖结构
机译:一种使用单节点的双阵列结构的改进密钥删除方法
机译:二维结构通过双曝光方法改善二维结构的改善
机译:光刻技术的应用:用于双曝光光刻的材料建模和形状编码生物传感器阵列的开发
机译:通过一种非常规的光刻法pDms微结构的台式制造
机译:磁性迁移中的二维结构的重建:方法改进