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Optical Microlithography XX pt.2; Proceedings of SPIE-The International Society for Optical Engineering; vol.6520 pt.2
Optical Microlithography XX pt.2; Proceedings of SPIE-The International Society for Optical Engineering; vol.6520 pt.2
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1.
Thermal aberration control for low k1 lithography
机译:
低k1光刻的热像差控制
作者:
Yusaku Uehara
;
Tomoyuki Matsuyama
;
Toshiharu Nakashima
;
Yasuhiro Ohmura
;
Taro Ogata
;
Kosuke Suzuki
;
Noriaki Tokuda
会议名称:
《Optical Microlithography XX pt.2; Proceedings of SPIE-The International Society for Optical Engineering; vol.6520 pt.2》
|
2006年
关键词:
thermal aberration;
aberration control;
RET;
infra-red;
uniform astigmatism;
lens control;
2.
A Study of Double Exposure Process Design with Balanced Performance Parameters for Line / Space Applications
机译:
线/空间应用中具有平衡性能参数的二次曝光过程设计的研究
作者:
Jun Zhu
;
Peng Wu
;
Qiang Wu
;
Hua Ding
;
Xin Li
;
Changjiang Sun
会议名称:
《Optical Microlithography XX pt.2; Proceedings of SPIE-The International Society for Optical Engineering; vol.6520 pt.2》
|
2006年
关键词:
double exposure;
MEF;
effective resist diffusion length;
OPC;
deep-UV;
3.
New double exposure technique without alternating phase shift mask
机译:
无需交替移相掩模的新型双曝光技术
作者:
Tomohiko Yamamoto
;
Teruyoshi Yao
;
Hiroki Futatsuya
;
Tatsuo Chijimatsu
;
Satoru Asai
会议名称:
《Optical Microlithography XX pt.2; Proceedings of SPIE-The International Society for Optical Engineering; vol.6520 pt.2》
|
2006年
关键词:
double exposure technique;
RET;
alt-PSM;
dipole illumination;
DFM;
4.
ILT for Double Exposure Lithography with Conventional and Novel Materials
机译:
用于传统和新型材料的双曝光光刻的ILT
作者:
Amyn Poonawala
;
Yan Borodovsky
;
Peyman Milanfar
会议名称:
《Optical Microlithography XX pt.2; Proceedings of SPIE-The International Society for Optical Engineering; vol.6520 pt.2》
|
2006年
关键词:
double exposure lithography;
inverse lithography;
CEL;
two-photon absorption resist;
ILS;
5.
Quasi-telecentricity: the effects of unbalanced multipole illumination
机译:
准远心度:不平衡多极照明的影响
作者:
Stephen P. Renwick
会议名称:
《Optical Microlithography XX pt.2; Proceedings of SPIE-The International Society for Optical Engineering; vol.6520 pt.2》
|
2006年
关键词:
telecentricity;
illuminator;
multipole;
quadrupole;
crosspole;
dipole;
OPE;
OPC;
overlay;
6.
SRAF Placement and Sizing Using Inverse Lithography Technology
机译:
使用反光刻技术的SRAF放置和大小调整
作者:
Timothy Lin
;
Frederic Robert
;
Amandine Borjon
;
Gordon Russell
;
Catherine Martinelli
;
Andrew Moore
;
Yves Rody
会议名称:
《Optical Microlithography XX pt.2; Proceedings of SPIE-The International Society for Optical Engineering; vol.6520 pt.2》
|
2006年
关键词:
optical lithography;
inverse lithography technology (ILT);
assist features;
depth of focus (DOF);
exposure latitude (EL);
sub-resolution assist features (SRAF);
7.
Early Look into Device Level Imaging with Beyond Water Immersion
机译:
超越水浸的设备级成像的早期研究
作者:
Will Conley
;
Scott Warrick
;
Cesar Garza
;
Pierre-Jerome Goirand
;
Jan-Willem Gemmink
;
David Van Steenwinckel
会议名称:
《Optical Microlithography XX pt.2; Proceedings of SPIE-The International Society for Optical Engineering; vol.6520 pt.2》
|
2006年
8.
ACLV Driven Double-Patterning Decomposition With Extensively Added Printing Assist Features (PrAFs)
机译:
ACLV驱动的双重图案分解,具有广泛添加的打印辅助功能(PrAF)
作者:
Jason E. Meiring
;
Henning Haffner
;
Carlos Fonseca
;
Scott D. Halle
;
Scott M. Mansfield
会议名称:
《Optical Microlithography XX pt.2; Proceedings of SPIE-The International Society for Optical Engineering; vol.6520 pt.2》
|
2006年
关键词:
PrAF;
SRAF;
ACLV;
RET;
double patterning;
double exposure;
decomposition;
9.
Optimal SRAF placement for process window enhancement in 65nm/45nm technology
机译:
最佳SRAF位置,用于在65nm / 45nm技术中增强工艺窗口
作者:
Chandra Sarma
;
Klaus Herold
;
Christoph Noelscher
;
Paul Schroeder
会议名称:
《Optical Microlithography XX pt.2; Proceedings of SPIE-The International Society for Optical Engineering; vol.6520 pt.2》
|
2006年
关键词:
SRAF;
assist features;
asymmetrical SRAF;
OPC;
forbidden pitch;
gate;
process window;
10.
Methods for comparative extraction of OPC response
机译:
OPC反应的比较提取方法
作者:
Terrence E. Zavecz
会议名称:
《Optical Microlithography XX pt.2; Proceedings of SPIE-The International Society for Optical Engineering; vol.6520 pt.2》
|
2006年
关键词:
lithographic friendly design;
DFM;
bossung;
dose control;
double patterning;
dose uniformity;
ACLV, process behavioral models;
metrology;
stability;
matching;
photomask;
simulation;
proximity;
response;
11.
Quantum state control interference lithography and trim double patterning for 32-16 nm lithography
机译:
量子态控制干涉光刻和32-16 nm光刻的修整双图案
作者:
Robert D. Frankel
;
Bruce W. Smith
;
Andrew Estroff
会议名称:
《Optical Microlithography XX pt.2; Proceedings of SPIE-The International Society for Optical Engineering; vol.6520 pt.2》
|
2006年
关键词:
microlithography;
nanolithography;
double patterning;
quantum state control;
interferometric lithography;
12.
Feasibility Study of Splitting Pitch Technology on 45nm Contact Patterning with 0.93 NA
机译:
使用0.93 NA在45nm接触图案上采用间距化技术的可行性研究
作者:
Yung Feng Cheng
;
Yueh Lin Chou
;
Ting Cheng Tseng
;
Bo Yun Hsueh
;
Chuen Huei Yang
会议名称:
《Optical Microlithography XX pt.2; Proceedings of SPIE-The International Society for Optical Engineering; vol.6520 pt.2》
|
2006年
关键词:
NA;
low k1;
45nm;
RET;
contact;
splitting pitch;
13.
Feasibility of 37-nm half-pitch with ArF high-index immersion lithography
机译:
采用ArF高折射率浸没式光刻技术进行37纳米半节距的可行性
作者:
Yoshiyuki Sekine
;
Miyoko Kawashima
;
Eiji Sakamoto
;
Keita Sakai
;
Akihiro Yamada
;
Tokuyuki Honda
会议名称:
《Optical Microlithography XX pt.2; Proceedings of SPIE-The International Society for Optical Engineering; vol.6520 pt.2》
|
2006年
关键词:
immersion lithography;
high-index fluid;
high-index lens material;
thermal aberration;
14.
Silicon Verification of Flare Model Application to Real Chip for Long Range Proximity Correction
机译:
扩口模型的硅验证及其在实际芯片中的远距离校正应用
作者:
Dongqing Zhang
;
Choi Byoung Il
;
Foong Yee Mei
;
Suleni Tunggal Mulia
;
Hsieh Jung Yu
;
James Word
;
Yasri Yudhistira
会议名称:
《Optical Microlithography XX pt.2; Proceedings of SPIE-The International Society for Optical Engineering; vol.6520 pt.2》
|
2006年
关键词:
lithography;
flare;
optical proximity correction;
long-range proximity;
CD;
15.
Latest results from the hyper-NA immersion scanners S609B and S610C
机译:
hyper-NA沉浸式扫描仪S609B和S610C的最新结果
作者:
Jun Ishikawa
;
Tomoharu Fujiwara
;
Kenichi Shiraishi
;
Yuuki Ishii
;
Masahiro Nei
会议名称:
《Optical Microlithography XX pt.2; Proceedings of SPIE-The International Society for Optical Engineering; vol.6520 pt.2》
|
2006年
关键词:
ArF exposure tool;
immersion;
hyper-NA;
the NSR-S609B;
the NSR-S610C;
tandem stage;
16.
Immersion exposure tool for the 45nm HP mass production
机译:
用于45nm HP批量生产的浸入式曝光工具
作者:
Hiroaki Kubo
;
Hideo Hata
;
Fumio Sakai
;
Nobuyoshi Deguchi
;
Takehiko Iwanaga
;
Takeaki Ebihara
会议名称:
《Optical Microlithography XX pt.2; Proceedings of SPIE-The International Society for Optical Engineering; vol.6520 pt.2》
|
2006年
关键词:
exposure tool;
immersion lithography;
equipment;
high refractive index immersion;
lens aberration;
polarized illumination;
in-situ PMI;
17.
XLR 500i: Recirculating Ring ArF Light Source for Immersion Lithography
机译:
XLR 500i:用于浸没式光刻的循环环形ArF光源
作者:
D.J.W. Brown
;
P. OKeeffe
;
V.B. Fleurov
;
R. Rokitski
;
R. Bergstedt
;
I.V. Fomenkov
;
K. OBrien
;
N.R. Farrar
;
W.N. Partlo
会议名称:
《Optical Microlithography XX pt.2; Proceedings of SPIE-The International Society for Optical Engineering; vol.6520 pt.2》
|
2006年
关键词:
ArF;
laser;
lithography;
recirculating ring;
CD control;
bandwidth;
energy stability;
yhroughput;
18.
Optical Performance Enhancement Technique for 45nm-node with Binary Mask
机译:
具有二元掩模的45nm节点的光学性能增强技术
作者:
Jin-Sik Jung
;
Hee-Bom Kim
;
Jeung-Woo Lee
;
Sung-Woon Choi
;
Woo-Sung Han
会议名称:
《Optical Microlithography XX pt.2; Proceedings of SPIE-The International Society for Optical Engineering; vol.6520 pt.2》
|
2006年
关键词:
oxide;
deposition;
binary;
optical performance enhancement;
topography effect;
45nm-node;
19.
Size tolerance of sub-resolution assist features for sub-50 nm node device
机译:
50纳米以下节点设备的亚分辨率辅助功能的尺寸公差
作者:
Byung-Sung Kim
;
Sung-Ho Lee
;
Hong-Jae Shin
;
Nae-In Lee
会议名称:
《Optical Microlithography XX pt.2; Proceedings of SPIE-The International Society for Optical Engineering; vol.6520 pt.2》
|
2006年
关键词:
sub-resolution assist feature;
SRAF;
main feature;
gate CD control;
CD uniformity;
printability;
mask topography;
RCWA simulation;
20.
A litho-only approach to double patterning
机译:
仅用于平版印刷的双图样方法
作者:
A. Vanleenhove
;
D. Van Steenwinckel
会议名称:
《Optical Microlithography XX pt.2; Proceedings of SPIE-The International Society for Optical Engineering; vol.6520 pt.2》
|
2006年
关键词:
lithography;
double patterning;
ultra low k1;
throughput;
21.
Mask 3D effect on 45-nm imaging using attenuated PSM
机译:
使用衰减的PSM掩膜3D对45 nm成像的影响
作者:
Kazuya Sato
;
Masamitsu Itoh
;
Takashi Sato
会议名称:
《Optical Microlithography XX pt.2; Proceedings of SPIE-The International Society for Optical Engineering; vol.6520 pt.2》
|
2006年
关键词:
3D mask model;
hyper NA;
attenuated PSM;
MEF;
dose-MEF;
contrast control knob;
22.
Extending Immersion Lithography with High Index Materials Results of a feasibility study
机译:
用高折射率材料扩展浸没式光刻技术可行性研究的结果
作者:
Harry Sewell
;
Jan Mulkens
;
Paul Graeupner
;
Diane McCafferty
;
Louis Markoya
;
Sjoerd Donders
;
Nandasiri Samarakone
;
Rudiger Duesing
会议名称:
《Optical Microlithography XX pt.2; Proceedings of SPIE-The International Society for Optical Engineering; vol.6520 pt.2》
|
2006年
关键词:
immersion lithography;
193nm lithography;
high-n immersion fluids;
immersion defects;
23.
Performance of a 1.35NA ArF immersion lithography system for 40nm applications
机译:
用于40nm应用的1.35NA ArF浸没式光刻系统的性能
作者:
Jos de Klerk
;
Christian Wagner
;
Richard Droste
;
Leon Levasier
;
Louis Jorritsma
;
Eelco van Setten
;
Hans Kattouw
;
Jowan Jacobs
;
Tilmann Heil
会议名称:
《Optical Microlithography XX pt.2; Proceedings of SPIE-The International Society for Optical Engineering; vol.6520 pt.2》
|
2006年
关键词:
193nm;
high NA;
immersion lithography;
polarized illumination;
24.
The Improvement of Photolithographic Fidelity of Two-dimensional Structures through Double Exposure Method
机译:
通过二次曝光法提高二维结构的光刻保真度
作者:
Qingqing Wenren
;
Hua Ding
;
Xin Li
;
Changjiang Sun
;
Jun Zhu
;
Qiang Wu
会议名称:
《Optical Microlithography XX pt.2; Proceedings of SPIE-The International Society for Optical Engineering; vol.6520 pt.2》
|
2006年
关键词:
double exposure;
two-dimensional;
32 nm node;
photolithographic fidelity;
optical proximity correction;
25.
Novel high throughput microoptical beam shapers reduce the complexity of macrooptics in hyper-NA illumination systems
机译:
新型高通量微光学光束整形器可降低超NA照明系统中微光学的复杂性
作者:
T. Bizjak
;
T. Mitra
;
L. Aschke
会议名称:
《Optical Microlithography XX pt.2; Proceedings of SPIE-The International Society for Optical Engineering; vol.6520 pt.2》
|
2006年
关键词:
microlens array;
homogenizer;
asymmetric cylindrical lenses;
free form surface;
modular beam shaping;
decentered lenses;
tilted illumination;
adjustable homogeneous radiant intensity;
aberration compensation homogeneity;
26.
Development and Characterization of a 300mm Dual- Side Alignment Stepper
机译:
300mm双面对准步进器的开发与特性
作者:
Warren W. Flack
;
Emily M. True
;
Robert Hsieh
;
Detlef Fuchs
;
Ray Ellis
会议名称:
《Optical Microlithography XX pt.2; Proceedings of SPIE-The International Society for Optical Engineering; vol.6520 pt.2》
|
2006年
关键词:
dual-side alignment;
back-to-front alignment;
system in package;
wafer level packaging;
MEMS;
image sensors;
300mm wafers;
lithography tool performance;
27.
Flare Effect of Different Shape of Illumination Apertures in 193-nm Optical Lithography System
机译:
193 nm光学光刻系统中不同形状的照明孔的光斑效应
作者:
Young-Je Yun
;
Jeahee Kim
;
Keeho Kim
会议名称:
《Optical Microlithography XX pt.2; Proceedings of SPIE-The International Society for Optical Engineering; vol.6520 pt.2》
|
2006年
关键词:
flare;
193-nm lithography;
critical dimension control;
28.
Intensity Weighed Focus Drilling Exposure for Maximizing Process Window of Sub-100nm Contact by Simulation
机译:
通过模拟实现强度称重聚焦钻孔曝光,以最大化100nm以下接触窗口
作者:
Sunwook Jung
;
Tien-Chu Yang
;
Ta-Hung Yang
;
Kuang-Chao Chen
;
Chih-Yuan Lu
会议名称:
《Optical Microlithography XX pt.2; Proceedings of SPIE-The International Society for Optical Engineering; vol.6520 pt.2》
|
2006年
关键词:
focus drilling;
intensity weighting;
depth of focus (DoF);
energy latitude (EL);
prolith;
29.
A Discussion of the Regression of Physical Parameters for Photolithographic Process Models
机译:
光刻工艺模型物理参数回归的讨论
作者:
Lawrence S. Melvin III
;
Kevin D. Lucas
会议名称:
《Optical Microlithography XX pt.2; Proceedings of SPIE-The International Society for Optical Engineering; vol.6520 pt.2》
|
2006年
关键词:
process model;
regression;
optical proximity correction;
30.
Exposure and compositional factors that influence polarization induced birefringence in silica glass
机译:
曝光和成分因素影响石英玻璃中偏振诱导的双折射
作者:
Douglas C. Allan
;
Michal Mlejnek
;
Ulrich Neukirch
;
Charlene M. Smith
;
Frances M. Smith
会议名称:
《Optical Microlithography XX pt.2; Proceedings of SPIE-The International Society for Optical Engineering; vol.6520 pt.2》
|
2006年
关键词:
silica;
lithography;
laser damage;
polarization induced birefringence;
excimer;
PIB;
31.
New projection optics and aberration control system for the 45-nm node
机译:
适用于45纳米节点的新型投影光学和像差控制系统
作者:
Toshiyuki Yoshihara
;
Bunsuke Takeshita
;
Atsushi Shigenobu
;
Yasuo Hasegawa
;
Yoshinori Ohsaki
;
Kazuhiko Mishima
;
Seiya Miura
会议名称:
《Optical Microlithography XX pt.2; Proceedings of SPIE-The International Society for Optical Engineering; vol.6520 pt.2》
|
2006年
关键词:
projection optics;
wavefront aberration;
lens heating;
in-situ metrology;
32.
Demonstration of sub-45nm features using azimuthal polarization on a 1.30NA immersion microstepper
机译:
在1.30NA浸入式微步进器上使用方位极化演示45nm以下的功能
作者:
Emil C. Piscani
;
Shane Palmer
;
Chris Van Peski
会议名称:
《Optical Microlithography XX pt.2; Proceedings of SPIE-The International Society for Optical Engineering; vol.6520 pt.2》
|
2006年
关键词:
immersion lithography;
RET;
polarization;
OAI;
BARC;
azimuthal;
33.
A method for generating assist-features in full-chip scale and its application to contact layers of sub-70nm DRAM devices
机译:
一种全芯片规模的辅助特征生成方法及其在70nm以下DRAM器件接触层中的应用
作者:
Dong-Woon Park
;
Sangwook Kim
;
Chan Hwang
;
Sukjoo Lee
;
Han-Ku Cho
;
Joo-Tae Moon
会议名称:
《Optical Microlithography XX pt.2; Proceedings of SPIE-The International Society for Optical Engineering; vol.6520 pt.2》
|
2006年
关键词:
assist-feature;
model-based OPC;
depth-of-focus;
lithography;
34.
Catadioptric Projection Lens for 1.3 NA scanner
机译:
适用于1.3 NA扫描仪的折反射投影镜头
作者:
Tomoyuki Matsuyama
;
Yasuhiro Ohmura
;
Yohei Fujishima
;
Takashi Koyama
会议名称:
《Optical Microlithography XX pt.2; Proceedings of SPIE-The International Society for Optical Engineering; vol.6520 pt.2》
|
2006年
关键词:
microlithography;
projection lens;
immersion;
35.
Ultra line narrowed injection lock laser light source for higher NA ArF immersion lithography tool
机译:
适用于更高NA ArF浸没式光刻工具的超细线窄注入锁定激光光源
作者:
Toru Suzuki
;
Kouji Kakizaki
;
Takashi Matsunaga
;
Satoshi Tanaka
;
Yasufumi Kawasuji
;
Masashi Shimbori
;
Masaya Yoshino
;
Takahito Kumazaki
;
Hiroshi Umeda
;
Hitoshi Nagano
;
Shinji Nagai
;
Youichi Sasaki
;
Hakaru Mizoguchi
会议名称:
《Optical Microlithography XX pt.2; Proceedings of SPIE-The International Society for Optical Engineering; vol.6520 pt.2》
|
2006年
关键词:
45nm node;
ArF excimer laser;
injection lock;
line narrow;
193nm lithography;
immersion;
spectrum bandwidth;
high power;
36.
Process margin improvement using custom transmission EAPSM reticles
机译:
使用自定义传输EAPSM标线来提高过程裕度
作者:
J. Buntin
;
S. Agarwal
;
B. Rolfson
;
R. Housley
;
B. Baggenstoss
;
E. Byers
;
C. Progler
会议名称:
《Optical Microlithography XX pt.2; Proceedings of SPIE-The International Society for Optical Engineering; vol.6520 pt.2》
|
2006年
关键词:
reticle-transmission;
RET;
EAPSM;
ILS simulation;
low k_1 lithography;
37.
Verification of High Transmittance PSM with Polarization at 193nm high NA system
机译:
在193nm高NA系统中通过极化验证高透射率PSM
作者:
Chui Fu Chiu
;
Chih Li Chen
;
Jenn Wei Lee
;
Wen Bin Wu
;
Chiang Lin Shih
;
Feng Yi Chen
;
Jeng Ping Lin
会议名称:
《Optical Microlithography XX pt.2; Proceedings of SPIE-The International Society for Optical Engineering; vol.6520 pt.2》
|
2006年
关键词:
polarization;
transmission;
simulation;
high-transmittance phase shift mask;
high numerical aperture;
38.
The impact of the mask stack and its optical parameters on the imaging performance
机译:
掩模叠层及其光学参数对成像性能的影响
作者:
Andreas Erdmann
;
Tim Fuehner
;
Sebastian Seifert
;
Stephan Popp
;
Peter Evanschitzky
会议名称:
《Optical Microlithography XX pt.2; Proceedings of SPIE-The International Society for Optical Engineering; vol.6520 pt.2》
|
2006年
关键词:
lithography simulation;
mask topography;
mask materials;
polarization;
39.
Integration of a new alignment sensor for advanced technology nodes
机译:
集成了用于先进技术节点的新型对准传感器
作者:
Paul Hinnen
;
Jerome Depre
;
Shinichi Tanaka
;
Ser-Yong Lim
;
Omar Brioso
;
Mir Shahrjerdy
;
Kazutaka Ishigo
;
Takuya Kono
;
Tatsuhiko Higashiki
会议名称:
《Optical Microlithography XX pt.2; Proceedings of SPIE-The International Society for Optical Engineering; vol.6520 pt.2》
|
2006年
关键词:
alignment;
overlay;
mark design;
applications;
strategy optimization;
alignment sensor;
advanced;
40.
Effects of Reticle Birefringence on 193nm Lithography
机译:
掩模版双折射对193nm光刻的影响
作者:
Scott Light
;
Irina Tsyba
;
Christopher Petz
;
Pary Baluswamy
;
Brett Rolfson
会议名称:
《Optical Microlithography XX pt.2; Proceedings of SPIE-The International Society for Optical Engineering; vol.6520 pt.2》
|
2006年
关键词:
immersion;
polarization;
reticle;
birefringence;
41.
High Index Immersion Lithography With Second Generation Immersion Fluids To Enable Numerical Apertures of 1.55 For Cost Effective 32 nm Half Pitches
机译:
高折射率浸没式光刻技术和第二代浸没液可实现1.55的数值孔径,从而具有成本效益的32 nm半节距
作者:
R. H. French
;
V. Liberman
;
H. V. Tran
;
J. Feldman
;
D. J. Adelman
;
R. C. Wheland
;
W. Qiu
;
S. J. McLain
;
O. Nagao
;
M. Kaku
;
M. Mocella
;
M. K. Yang
;
M. F. Lemon
;
L. Brubaker
;
A. L. Shoe
;
B. Fones
;
B. E. Fischel
;
K. Krohn
;
D. Hardy
;
C. Y. Chen
会议名称:
《Optical Microlithography XX pt.2; Proceedings of SPIE-The International Society for Optical Engineering; vol.6520 pt.2》
|
2006年
关键词:
immersion;
second generation fluid;
third generation fluid;
hydrocarbons;
refractive index;
absorbance;
fluid handling;
radiation durability;
active recycle;
window contamination;
particle contamination;
42.
High-Index fluoride materials for 193 nm Immersion Lithography
机译:
用于193 nm浸没式光刻的高指数氟化物材料
作者:
Teruhiko Nawata
;
Yoji Inui
;
Isao Masada
;
Eiichi Nishijima
;
Toshiro Mabuchi
;
Naoto Mochizuki
;
Hiroki Satoh
;
Tsuguo Fukuda
会议名称:
《Optical Microlithography XX pt.2; Proceedings of SPIE-The International Society for Optical Engineering; vol.6520 pt.2》
|
2006年
关键词:
BaLiF_3;
high index;
immersion lithography;
czochralski;
single crystal;
43.
Process window optimization of CPL mask for beyond 45nm lithography
机译:
针对超过45nm光刻技术的CPL掩模的工艺窗口优化
作者:
Soon Yoeng Tan
;
Qunying Lin
;
Cho Jui Tay
;
Chenggen Quan
会议名称:
《Optical Microlithography XX pt.2; Proceedings of SPIE-The International Society for Optical Engineering; vol.6520 pt.2》
|
2006年
关键词:
CPL;
phase;
zebra;
MEEF;
44.
Application of Full-chip Optical Proximity Correction for Sub-60nm Memory Device in Polarized Illumination
机译:
60nm以下存储器件全芯片光学接近度校正在偏振照明中的应用
作者:
Hyoung-Soon Yune
;
Yeong-Bae Ahn
;
Dong-jin Lee
;
James Moon
;
Byung-Ho Nam
;
Dong-gyu Yim
会议名称:
《Optical Microlithography XX pt.2; Proceedings of SPIE-The International Society for Optical Engineering; vol.6520 pt.2》
|
2006年
关键词:
RET;
polarization;
OPC;
gate CD error;
lithography;
45.
Utilization of Optical Proximity Effects for Resist Image Stitching
机译:
利用光学邻近效应进行图像拼接
作者:
Yongfa Fan
;
Tom Castro
会议名称:
《Optical Microlithography XX pt.2; Proceedings of SPIE-The International Society for Optical Engineering; vol.6520 pt.2》
|
2006年
关键词:
low k_1;
resist image stitching;
193-nm lithography;
46.
Double patterning with multilayer hard mask shrinkage for sub-0.25 k1 lithography
机译:
具有0.25 k1以下光刻的多层硬掩模收缩双图案
作者:
Hung Jen Liu
;
Wei Hsien Hsieh
;
Chang Ho Yeh
;
Jan Shiun Wu
;
Hung Wei Chan
;
Wen Bin Wu
;
Feng Yi Chen
;
Tse Yao Huang
;
Chiang Lin Shih
;
Jeng Ping Lin
会议名称:
《Optical Microlithography XX pt.2; Proceedings of SPIE-The International Society for Optical Engineering; vol.6520 pt.2》
|
2006年
关键词:
double patterning;
double exposure;
silicon containing BARC;
hard mask;
multilayer resist;
low k1;
47.
Pupil plane analysis on AIMS~(TM)45-193i for advanced photomasks
机译:
在AIMS〜(TM)45-193i上进行高级光掩模的学生平面分析
作者:
Yasutaka Morikawa
;
Takanori Sutou
;
Kei Mesuda
;
Takaharu Nagai
;
Yuichi Inazuki
;
Takashi Adachi
;
Nobuhito Toyama
;
Hiroshi Mohri
;
Naoya Hayashi
;
Ulrich Stroessner
;
Robert Birkner
;
Rigo Richter
;
Thomas Scheruebl
会议名称:
《Optical Microlithography XX pt.2; Proceedings of SPIE-The International Society for Optical Engineering; vol.6520 pt.2》
|
2006年
关键词:
45nm;
hyper-NA;
polarized illumination;
AIMS~(TM);
photomask;
optical characteristics;
pellicle;
48.
Sub k1 = 0.25 Lithography with Double Patterning Technique for 45nm Technology Node Flash Memory Devices at λ = 193nm
机译:
用于λ= 193nm的45nm技术节点闪存器件的Sub k1 = 0.25光刻技术和双图案技术
作者:
Gianfranco Capetti
;
Pietro Cantu
;
Elisa Galassini
;
Alessandro Vaglio Pret
;
Catia Turco
;
Alessandro Vaccaro
;
Pierluigi Rigolli
;
Fabrizio DAngelo
;
Gina Cotti
会议名称:
《Optical Microlithography XX pt.2; Proceedings of SPIE-The International Society for Optical Engineering; vol.6520 pt.2》
|
2006年
关键词:
double exposure;
k_1;
ArF;
hard mask;
OPC;
49.
Double Exposure Using 193nm Negative Tone Photoresist
机译:
使用193nm负色调光刻胶进行两次曝光
作者:
Ryoung-han Kim
;
Tom Wallow
;
Jongwook Kye
;
Harry J. Levinson
;
Dave White
会议名称:
《Optical Microlithography XX pt.2; Proceedings of SPIE-The International Society for Optical Engineering; vol.6520 pt.2》
|
2006年
关键词:
double exposure;
double patterning;
193 nm;
negative tone;
50.
A Study of Process Window Capabilities for Two-dimensional Structures under Double Exposure Condition
机译:
二次曝光条件下二维结构过程窗口能力的研究
作者:
Qiang Wu
;
Peng Wu
;
Jun Zhu
;
Hua Ding
;
Xin Li
;
Changjiang Sun
;
Chaoqun Peng
会议名称:
《Optical Microlithography XX pt.2; Proceedings of SPIE-The International Society for Optical Engineering; vol.6520 pt.2》
|
2006年
关键词:
double exposure;
line end shortening;
LES;
effective resist diffusion length;
partially coherent illumination;
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