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Conference on Optical Microlithography
Conference on Optical Microlithography
召开年:
2020
召开地:
San Jose(US)
出版时间:
-
会议文集:
-
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1.
New color alignment for CMOS image sensor
机译:
CMOS图像传感器的新颜色对齐
作者:
Miri Kish Dagan
;
Remi Edart
;
Hadas Rechtman
;
Yehuda Kanfi
;
Patrick Warnaar
;
Oshri Moshe
;
Richard van Haren
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography》
|
2007年
关键词:
Alignment Sensor;
Mark Design;
Overlay;
Color Resist;
Image Sensor;
2.
OPC in memory-device patterns using boundary layer model for 3-dimensional mask topographic effect
机译:
OPC在使用边界层模型中使用边界层模型进行三维掩模地形效果
作者:
Young-Chang Kim
;
Insung Kim
;
JeongGeun Park
;
Sangwook Kim
;
Sungsoo Suh
;
Yongjin Cheon
;
Sukjoo Lee
;
Junghyeon Lee
;
Chang-Jin Kang
;
Jootae Moon
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography》
|
2007年
关键词:
Lithography;
3D Mask;
Optical Proximity Correction (OPC);
boundary layer model;
ArF;
3.
Effects of Reticle Birefringence on 193nm Lithography
机译:
掩盖双折射在193nm光刻的影响
作者:
Scott Light
;
Irina Tsyba
;
Christopher Petz
;
Pary Baluswamy
;
Brett Rolfson
;
SPIE-The International Society for Optical Engineering
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography》
|
2007年
关键词:
immersion;
polarization;
reticle;
birefringence;
4.
Illumination optimization with actual information of exposure tool and resist process
机译:
曝光工具和抗蚀剂实际信息的照明优化
作者:
Koichiro Tsujita
;
Koji Mikami
;
Ryotaro Naka
;
Norikazu Baba
;
Tomomi Ono
;
Akiyoshi Suzuki
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography》
|
2007年
5.
Dr.LiTHO - A Development and Research Lithography Simulator
机译:
博士博士 - 一种开发和研究光刻模拟器
作者:
Tim Fuehner
;
Thomas Schnattinger
;
Gheorghe Ardelean
;
Andreas Erdmann
;
SPIE-The International Society for Optical Engineering
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography》
|
2007年
关键词:
simulation programs;
software design;
visualization;
python;
6.
The modeling of double patterning lithographic processes
机译:
双图案化平移过程的建模
作者:
Stewart A. Robertson
;
Trey Graves
;
Mark D. Smith
;
John J. Biafore
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography》
|
2007年
关键词:
PROLITH;
lithography simulation;
double patterning;
RCWA;
7.
The random contact hole solutions for future technology nodes
机译:
未来技术节点的随机接触孔解决方案
作者:
Alek Chen
;
Steve Hansen
;
Marco Moers
;
Jason Shieh
;
Andre Engelen
;
Koen van Ingen Schenau
;
Shih-en Tseng
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography》
|
2007年
关键词:
random contact hole;
imaging solutions;
optical lithography;
EUV;
8.
Three-dimensional mask effects and source polarization impact on OPC model accuracy and process window
机译:
对OPC模型精度和过程窗口的三维掩模效果和源极化影响
作者:
M. Saied
;
F. Foussadier
;
J. Belledent
;
Y. Trouiller
;
I. Schanen
;
C. Gardin
;
J. C. Urbani
;
P. K. Montgomery
;
F. Sundermann
;
F. Robert
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography》
|
2007年
关键词:
3D mask effects;
polarization;
OPC modeling;
process window;
9.
Sub k1 = 0.25 Lithography with Double Patterning Technique for 45nm Technology Node Flash Memory Devices at λ = 193nm
机译:
SUB K1 = 0.25光刻,具有双图案化技术,用于45nm技术节点闪存设备λ= 193nm
作者:
Gianfranco Capetti
;
Pietro Cantu
;
Elisa Galassini
;
Alessandro Vaglio Pret
;
Catia Turco
;
Alessandro Vaccaro
;
Pierluigi Rigolli
;
Fabrizio DAngelo
;
Gina Cotti
;
SPIE-The International Society for Optical Engineering
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography》
|
2007年
关键词:
double exposure;
k_1;
ArF;
hard mask;
OPC;
10.
Fast and accurate 3D mask model for full-chip OPC and verification
机译:
全芯片OPC和验证的快速准确3D掩模模型
作者:
Peng Liu
;
Yu Cao
;
Luoqi Chen
;
Guangqing Chen
;
Mu Feng
;
Jiong Jiang
;
Hua-yu Liu
;
Sungsoo Suh
;
Sung-Woo Lee
;
Sukjoo Lee
;
SPIE-The International Society for Optical Engineering
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography》
|
2007年
关键词:
thick mask;
oblique incidence;
11.
Pushing the boundary: low-k1 extension by polarized illumination
机译:
通过极化照明推动边界:低k1延伸
作者:
Eelco van Setten
;
Wim de Boeij
;
Birgitt Hepp
;
Nicolas le Masson
;
Geert Swinkels
;
Mark van de Kerkhof
;
SPIE-The International Society for Optical Engineering
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography》
|
2007年
关键词:
polarization;
hyper-NA;
high-NA;
immersion lithography;
low k1;
12.
High-index immersion lithography with second-generation immersion fluids to enable numerical aperatures of 1.55 for cost effective 32-nm half pitches
机译:
具有第二代浸液体的高折射率浸入光刻,使1.55的数值电磁能够实现32纳米半场的成本效益
作者:
R. H. French
;
V. Liberman
;
H. V. Tran
;
J. Feldman
;
D. J. Adelman
;
R. C. Wheland
;
W. Qiu
;
S. J. McLain
;
O. Nagao
;
M. Kaku
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography》
|
2007年
关键词:
immersion;
second generation fluid;
third generation fluid;
hydrocarbons;
refractive index;
absorbance;
fluid handling;
radiation durability;
active recycle;
window contamination;
particle contamination;
13.
The impact of the mask stack and its optical parameters on the imaging performance
机译:
掩模堆栈及其光学参数对成像性能的影响
作者:
Andreas Erdmann
;
Tim Ftihner
;
Sebastian Seifert
;
Stephan Popp
;
Peter Evanschitzky
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography》
|
2007年
关键词:
lithography simulation;
mask topography;
mask materials;
polarization;
14.
Polarization Aberration Analysis Using Pauli-Zernike Representation
机译:
使用Pauli-Zernike表示的极化像差分析
作者:
Norihiro Yamamoto
;
Jongwook Kye
;
Harry J. Levinson
;
SPIE-The International Society for Optical Engineering
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography》
|
2007年
关键词:
ultra-high NA;
polarization aberration;
zernike polynomials;
jones calculus;
pauli spin matrix;
15.
The optimization of zero-spaced microlenses for 2.2um pixel CMOS image sensor
机译:
用于2.2um像素CMOS图像传感器的零间距微透镜的优化
作者:
Hyun hee Nam
;
Jeong Lyeol Park
;
Jea Sung Choi
;
Jeong Gun Lee
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography》
|
2007年
关键词:
CMOS Image Sensor;
Zero Space;
Dead space;
Microlens;
curvature of radius;
16.
Process window optimization of CPL mask for beyond 45nm lithography
机译:
超过45nm光刻的CPL掩码的过程窗口优化
作者:
Soon Yoeng Tan
;
Qunying Lin
;
Cho Jui Tay
;
Chenggen Quan
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography》
|
2007年
关键词:
CPL;
Phase;
Zebra;
MEEF;
17.
A comparative study for mask defect tolerance on phase and transmission for dry and immersion 193-nm lithography
机译:
掩模缺陷对干燥和浸没的透射透射耐受性的比较研究193-nm光刻
作者:
Moh Lung Ling
;
Gek Soon Chua
;
Cho Jui Tay
;
Chenggen Quan
;
Qunying Lin
;
SPIE-The International Society for Optical Engineering
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography》
|
2007年
关键词:
immersion lithography;
haze related defect;
mask transmission change;
phase angle change;
simulation;
18.
New Color Alignment for CMOS Image Sensor
机译:
CMOS图像传感器的新颜色对齐
作者:
Miri Kish Dagan
;
Remi Edart
;
Hadas Rechtman
;
Yehuda Kanfi
;
Patrick Warnaar
;
Oshri Moshe
;
Richard van Haren
;
SPIE-The International Society for Optical Engineering
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography》
|
2007年
关键词:
alignment sensor;
mark design;
overlay;
color resist;
image sensor;
19.
A comparative study for mask defect tolerance on phase and transmission for dry and immersion 193-nm lithography
机译:
掩模缺陷对干燥和浸没的透射透射耐受性的比较研究193-nm光刻
作者:
Moh Lung Ling
;
Gek Soon Chua
;
Cho Jui Tay
;
Chenggen Quan
;
Qunying Lin
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography》
|
2007年
关键词:
Immersion lithography;
haze related defect;
mask transmission change;
phase angle change;
simulation;
20.
Sub-k1 = 0.25 lithography with double patterning technique for 45-nm technology node flash memory devices at λ = 193nm
机译:
SUB-K1 = 0.25光刻,具有双图案化技术,适用于45-NM技术节点闪存器件λ= 193nm
作者:
Gianfranco Capetti
;
Pietro Cantu
;
Elisa Galassini
;
Alessandro Vaglio Pret
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography》
|
2007年
关键词:
Double Exposure;
k1;
ArF;
Hard Mask;
OPC;
21.
Three-dimensional mask effects and source polarization impact on OPC Model accuracy and process window
机译:
对OPC模型精度和过程窗口的三维掩模效果和源极化影响
作者:
M. Saied
;
F. Foussadier
;
J. Belledent
;
Y. Trouiller
;
I. Schanen
;
C. Gardin
;
J.C. Urbani
;
P.K. Montgomery
;
F. Sundermann
;
F. Robert
;
C. Couderc
;
F. Vautrin
;
G. Kerrien
;
J. Planchot
;
E. Yesilada
;
C. Martinelli
;
B. Wilkinson
;
A. Borjon
;
L. Le-Cam
;
J.L. Di-M
;
SPIE-The International Society for Optical Engineering
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography》
|
2007年
关键词:
3D mask effects;
polarization;
OPC modeling;
process window;
22.
32-nm SOC printing with double patterning, regular design, and 1.2 NA immersion scanner
机译:
32-NM SOC印刷,双图案化,常规设计和1.2 NA浸没扫描仪
作者:
Yorick Trouiller
;
Vincent Farys
;
Amandine Borjon
;
Jerome Belledent
;
Christophe Couderc
;
Frank Sundermann
;
Jean-Christophe Urbani
;
Yves Rody
;
Christian Gardin
;
Jonathan Planchot
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography》
|
2007年
关键词:
design;
lithography;
OPC;
DFM;
32nm;
23.
ACLV Driven Double-Patterning Decomposition With Extensively Added Printing Assist Features (PrAFs)
机译:
ACLV驱动双图案化分解,广泛添加打印辅助功能(PRAFS)
作者:
Jason E. Meiring
;
Henning Haffner
;
Carlos Fonseca
;
Scott D. Halle
;
Scott M. Mansfield
;
SPIE-The International Society for Optical Engineering
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography》
|
2007年
关键词:
PrAF;
SRAF;
ACLV;
RET;
double patterning;
double exposure;
decomposition;
24.
OPC in memory-device patterns using boundary layer model for 3 dimensional mask topographic effect
机译:
OPC在使用边界层模型的存储器设备模式中为3维掩码地形效果
作者:
Young-Chang Kim
;
Insung Kim
;
JeongGeun Park
;
Sangwook Kim
;
Sungsoo Suh
;
Yongjin Cheon
;
Sukjoo Lee
;
Junghyeon Lee
;
Chang-Jin Kang
;
Jootae Moon
;
Jonathan Cobb
;
Sooryong Lee
;
SPIE-The International Society for Optical Engineering
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography》
|
2007年
关键词:
lithography;
3D mask;
optical proximity correction (OPC);
boundary layer model;
Arf;
25.
Illumination optimization with actual information of exposure tool and resist process
机译:
曝光工具和抗蚀剂实际信息的照明优化
作者:
Koichiro Tsujita
;
Koji Mikami
;
Ryotaro Naka
;
Norikazu Baba
;
Tomomi Ono
;
Akiyoshi Suzuki
;
SPIE-The International Society for Optical Engineering
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography》
|
2007年
26.
Polarization aberration analysis using Pauli-Zernike representation
机译:
使用Pauli-Zernike表示的极化像差分析
作者:
Norihiro Yamamoto
;
Jongwook Kye
;
Harry J.Levinson
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography》
|
2007年
关键词:
ultra-high NA;
polarization aberration;
Zernike polynomials;
Jones calculus;
Pauli spin matrix;
27.
The Modeling of Double Patterning Lithographic Processes
机译:
双图案化平移过程的建模
作者:
Stewart A. Robertson
;
Trey Graves
;
Mark D. Smith
;
John J. Biafore
;
SPIE-The International Society for Optical Engineering
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography》
|
2007年
关键词:
PROLITH;
lithography simulation;
double patterning;
RCWA;
28.
Investigation of DFM-lite ORC approach during OPC simulation
机译:
OPC仿真过程中DFM-Lite兽人方法的研究
作者:
Chin Teong Lim
;
Kai Peter
;
Vlad Temchenko
;
Dave Wallis
;
Dieter Kaiser
;
Ingo Meusel
;
Sebastian Schmidt
;
Martin Niehoff
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography》
|
2007年
29.
Fast and accurate 3D mask model for full-chip OPC and verification
机译:
全芯片OPC和验证的快速准确3D掩模模型
作者:
Peng Liu
;
Yu Cao
;
Luoqi Chen
;
Guangqing Chen
;
Mu Feng
;
Jiong Jiang
;
Sungsoo Suh
;
Sung-Woo Lee
;
Sukjoo Lee
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography》
|
2007年
关键词:
thick mask;
oblique incidence;
30.
The impact of the mask stack and its optical parameters on the imaging performance
机译:
掩模堆栈及其光学参数对成像性能的影响
作者:
Andreas Erdmann
;
Tim Fuehner
;
Sebastian Seifert
;
Stephan Popp
;
Peter Evanschitzky
;
SPIE-The International Society for Optical Engineering
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography》
|
2007年
关键词:
lithography simulation;
mask topography;
mask materials;
polarization;
31.
Pushing the boundary: low-k1 extension by polarized illumination
机译:
通过极化照明推动边界:低k1延伸
作者:
Eelco van Setten
;
Wim de Boeij
;
Birgitt Hepp
;
Nicolas le Masson
;
Geert Swinkels
;
Mark van de Kerkhof
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography》
|
2007年
关键词:
Polarization;
hyper-NA;
high-NA;
immersion lithography;
low kl;
32.
Polarization-dependent proximity effects
机译:
偏振依赖性邻近效应
作者:
Jacek. K. Tyminski
;
Tomoyuki Matsuyama
;
Tashiharu Nakashima
;
Thomas Schmoeller
;
John Lewellen
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography》
|
2007年
关键词:
Projection Lens Model Vectorization;
Wavefront Aberrations;
Optical Proximity Effects;
33.
Methods for comparative extraction of OPC response
机译:
对比较提取OPC响应的方法
作者:
Terrence E. Zavecz
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography》
|
2007年
关键词:
Lithographic Friendly Design;
DFM;
Bossung;
Dose Control;
Double Patterning;
Dose Uniformity;
ACLV;
Process Behavioral Models;
metrology;
stability;
matching;
photomask;
simulation;
proximity;
response;
34.
The Improvement of Photolithographic Fidelity of Two-dimensional Structures through Double Exposure Method
机译:
二维结构通过双曝光方法改善二维结构的改善
作者:
Qingqing Wenren
;
Hua Ding
;
Xin Li
;
Changjiang Sun
;
Jun Zhu
;
Qiang Wu
;
SPIE-The International Society for Optical Engineering
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography》
|
2007年
关键词:
double exposure;
two-dimensional;
32 nm node;
photolithographic fidelity;
optical proximity correction;
35.
Extending Immersion Lithography with High Index Materials Results of a feasibility study
机译:
延伸浸入光刻,具有高指标材料的可行性研究结果
作者:
Harry Sewell
;
Jan Mulkens
;
Paul Graeupner
;
Diane McCafferty
;
Louis Markoya
;
Sjoerd Donders
;
Nandasiri Samarakone
;
Rudiger Duesing
;
SPIE-The International Society for Optical Engineering
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography》
|
2007年
关键词:
immersion lithography;
193nm lithography;
high-n immersion fluids;
immersion defects;
36.
Latest results from the hyper-NA immersion scanners S609B and S610C
机译:
Hyper-Na Immersion Scanner S609B和S610C的最新结果
作者:
Jun Ishikawa
;
Tomoharu Fujiwara
;
Kenichi Shiraishi
;
Yuuki Ishii
;
Masahiro Nei
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography》
|
2007年
关键词:
ArF exposure tool;
Immersion;
Hyper-NA;
The NSR-S609B;
TheNSR-S610C;
Tandem stage;
37.
Methods for comparative extraction of OPC response
机译:
对比较提取OPC响应的方法
作者:
Terrence E. Zavecz
;
SPIE-The International Society for Optical Engineering
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography》
|
2007年
关键词:
lithographic friendly design;
DFM;
bossung;
dose control;
double patterning;
dose uniformity;
ACLV, process behavioral models;
metrology;
stability;
matching;
photomask;
simulation;
proximity;
response;
38.
Dr.LiTHO: a development and research lithography simulator
机译:
勒奇索博士:开发和研究光刻模拟器
作者:
Tim Fuhner
;
Thomas Schnattinger
;
Gheorghe Ardelean
;
Andreas Erdmann
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography》
|
2007年
关键词:
Simulation Programs;
Software Design;
Visualization;
Python;
39.
Investigation of DFM-lite ORC Approach During OPC Simulation
机译:
OPC仿真过程中DFM-Lite兽人方法的研究
作者:
ChinTeong Lim
;
Kai Peter
;
Vlad Temchenko
;
Dave Wallis
;
Dieter Kaiser
;
Ingo Meusel
;
Sebastian Schmidt
;
Martin Niehoff
;
SPIE-The International Society for Optical Engineering
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography》
|
2007年
40.
Mask 3D effect on 45-nm imaging using attenuated PSM
机译:
使用减毒PSM对45-NM成像的掩模3D效果
作者:
Kazuya Sato
;
Masamitsu Itoh
;
Takashi Sato
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography》
|
2007年
41.
Global optimization of masks, including film stack design to restore TM contrast in high NA TCC's
机译:
全球优化面具,包括胶片堆设计,以恢复高NA TCC的TM对比度
作者:
Alan E. Rosenbluth
;
David Melville
;
Kehan Tian
;
Kafai Lai
;
Nakgeuon Seong
;
Dirk Pfeiffer
;
Matthew Colburn
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography》
|
2007年
关键词:
Inverse lithography;
reticle enhancement technology;
RET;
TM contrast;
high numerical aperture;
OPC;
SMO;
DFM;
42.
Global Optimization of Masks, Including Film Stack Design to Restore TM Contrast in High NA TCC's
机译:
全球优化面具,包括胶片堆设计,以恢复高NA TCC的TM对比度
作者:
Alan E. Rosenbluth
;
David Melville
;
Kehan Tian
;
Kafai Lai
;
Nakgeuon Seong
;
Dirk Pfeiffer
;
Matthew Colburn
;
SPIE-The International Society for Optical Engineering
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography》
|
2007年
关键词:
inverse lithography;
reticle enhancement technology;
RET;
TM contrast;
high numerical aperture;
OPC;
SMO;
DFM;
43.
Manufacturability issues with Double Patterning for 50nm half pitch single damascene applications, using RELACS~R shrink and corresponding OPC
机译:
使用RELACS〜R缩小和相应的OPC,使用relacs〜R缩小和相应的OPC具有双重图案化的可制造性问题
作者:
Maaike Op de Beeck
;
Janko Versluijs
;
Vincent Wiaux
;
Tom Vandeweyer
;
Ivan Ciofi
;
Herbert Struyf
;
Dirk Hendrickx
;
Jan Van Olmen
;
SPIE-The International Society for Optical Engineering
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography》
|
2007年
关键词:
double patterning;
50nm half pitch;
RELACS shrink;
OPC;
single damascene;
litho-friendly design;
44.
Manufacturability issues with double patterning for 50-nm half-pitch single damascene applications using RELACS shrink and corresponding OPC
机译:
使用RELACS收缩和相应OPC双图案化的可制造性问题对50纳米半俯仰单个镶嵌应用
作者:
Maaike Op de Beeck
;
Janko Versluijs
;
Vincent Wiaux
;
Tom Vandeweyer
;
Ivan Ciofi
;
Herbert Struyf
;
Dirk Hendrickx
;
Jan Van Olmen
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography》
|
2007年
关键词:
double patterning;
50mn half pitch;
RELACS shrink;
OPC;
single damascene;
litho-friendly design;
45.
Optical Lithography ... 40 years and holding
机译:
光学光刻...... 40年和持有
作者:
John H. Bruning
;
SPIE-The International Society for Optical Engineering
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography》
|
2007年
关键词:
lithography history;
photolithography;
optical lithography;
immersion;
reduction lithography;
46.
Heuristics for truncating the number of optical kernels in Hopkins image calculations for model-based OPC treatment
机译:
掀起基于模型的OPC处理的跳跃图像计算中光内核数量的启发式训练
作者:
Christian Zuniga
;
Edita Tejnil
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography》
|
2007年
关键词:
Hopkins;
Kernels;
eigenfunctions;
transmission cross coefficients;
TCC;
sum-of-coherent systems;
SOCS;
Coherence;
CD;
Optical Proximity Correction;
OPC;
Model-based OPC;
47.
Exposure and compositional factors that influence polarization induced birefringence in silica glass
机译:
影响二氧化硅玻璃偏振诱导的双折射的暴露和组成因子
作者:
Douglas C. Allan
;
Michal Mlejnek
;
Ulrich Neukirch
;
Charlene M. Smith
;
Frances M. Smith
;
SPIE-The International Society for Optical Engineering
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography》
|
2007年
关键词:
silica;
lithography;
laser damage;
polarization induced birefringence;
excimer;
PIB;
48.
Exposure and compositional factors that influence polarization induced birefringence in silica glass
机译:
影响二氧化硅玻璃偏振诱导的双折射的暴露和组成因子
作者:
Douglas C. Allan
;
Michal Mlejnek
;
Ulrich Neukirch
;
Charlene M. Smith
;
Frances M. Smith
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography》
|
2007年
关键词:
silica;
lithography;
laser damage;
polarization induced birefringence;
excimer;
PIB;
49.
Performance of a 1.35NA ArF immersion lithography system for 40nm applications
机译:
1.35NA ARF浸入光刻系统的40nM应用性能
作者:
Jos de Klerk
;
Christian Wagner
;
Richard Droste
;
Leon Levasier
;
Louis Jorritsma
;
Eelco van Setten
;
Hans Kattouw
;
Jowan Jacobs
;
Tilmann Heil
;
SPIE-The International Society for Optical Engineering
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography》
|
2007年
关键词:
193nm;
high NA;
immersion lithography;
polarized illumination;
50.
ILT for double exposure lithography with conventional and novel materials
机译:
用于双曝光光刻与常规和新材料
作者:
Amyn Poonawala
;
Yan Borodovsky
;
Peyman Milanfar
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography》
|
2007年
关键词:
Double exposure lithography;
inverse lithography;
CEL;
two-photon absorption resist;
ILS;
51.
Heuristics for Truncating the Number of Optical Kernels in Hopkins Image Calculations for Model-Based OPC Treatment
机译:
掀起基于模型的OPC处理的跳跃图像计算中光内核数量的启发式训练
作者:
Christian Zuniga
;
Edita Tejnil
;
SPIE-The International Society for Optical Engineering
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography》
|
2007年
关键词:
hopkins;
kernels;
eigenfunctions;
transmission cross coefficients;
TCC;
sum-of-coherent systems;
SOCS;
coherence;
CD;
optical proximity correction;
OPC;
model-based OPC;
52.
ILT for Double Exposure Lithography with Conventional and Novel Materials
机译:
用于双曝光光刻与常规和新材料
作者:
Amyn Poonawala
;
Yan Borodovsky
;
Peyman Milanfar
;
SPIE-The International Society for Optical Engineering
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography》
|
2007年
关键词:
double exposure lithography;
inverse lithography;
CEL;
two-photon absorption resist;
ILS;
53.
Performance of a 1.35NA ArF immersion lithography system for 40-nm applications
机译:
1.35NA ARF浸入光刻系统的性能40nm应用
作者:
Jos de Klerk
;
Christian Wagner
;
Richard Droste
;
Leon Levasier
;
Louis Jorritsma
;
Eelco van Setten
;
Hans Kattouw
;
Jowan Jacobs
;
Tilrnann Heil
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography》
|
2007年
关键词:
193nm;
high NA;
immersion lithography;
polarized illumination;
54.
Alternating PSM balancing characterization: a comparative study using AIMS and wafer print data
机译:
交替的PSM平衡表征:使用AIMS和晶片打印数据的比较研究
作者:
Martin Sczyrba
;
Roderick Kle
;
Karsten Bubke
;
Mario Hennig
;
Rainer Pforr
;
Ralf Neubauer
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography》
|
2006年
关键词:
Alternating phase-shifting mask;
phase balancing;
AIMS;
resist Model;
55.
Marching to the beat of Moore's Law
机译:
前往摩尔定律的节拍
作者:
Yan Borodovsky
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography》
|
2006年
56.
Model-based OPC for node random size contact hole with SRAF
机译:
基于模型的OPC用于节点随机尺寸接触孔,带SRAF
作者:
C. W. Huang
;
Y. Y. Chang
;
L. S. Yeh
;
H. Y. Liao
;
C. L. Shih
;
J. P. Lin
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography》
|
2006年
关键词:
Random size;
single size;
high NA;
off-axis illumination;
SRAFs;
model-based OPC;
57.
Model-based OPC for Node Random Size Contact Hole with SRAf
机译:
基于模型的OPC用于节点随机尺寸接触孔,带SRAF
作者:
C.W. Huang
;
Y.Y. Chang
;
L.S. Yeh
;
H.Y.Liao
;
C.L. Shih
;
J.P. Lin
;
SPIE-The International Society for Optical Engineering
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography》
|
2006年
关键词:
random size;
single size;
high NA;
off-axis illumination;
SRAFs;
model-based OPC;
58.
Assembly of a 193-nm interferometer for immersion lithography: vibration effects on image contrast
机译:
用于浸入光刻的193-NM干涉仪的组装:振动效应图像对比
作者:
Alex Lagrange
;
Anne Laure Charley
;
Olivier Lartigue
;
Marianne Derouard
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography》
|
2006年
关键词:
Interferometric lithography;
immersion lithography;
image contrast;
vibrations;
59.
Assembly of a 193-nm interferometer for immersion lithography: vibration effects on image contrast
机译:
用于浸入光刻的193-NM干涉仪的组装:振动效应图像对比
作者:
Alex Lagrange
;
Anne Laure Charley
;
Olivier Lartigue
;
Marianne Derouard
;
SPIE-The International Society for Optical Engineering
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography》
|
2006年
关键词:
interferometric lithography;
immersion lithography;
image contrast;
vibrations;
60.
Application of CM0 resist model to OPC and verification
机译:
CM0抗蚀模型在OPC和验证中的应用
作者:
Yuri Granik
;
Nick Cobb
;
Dmitry Medvedev
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography》
|
2006年
关键词:
optical lithography;
optical proximity correction;
OPC;
lithographical models, Compact resist models, VTS;
61.
Application of CM0 resist model to OPC and Verification
机译:
CM0抗蚀模型在OPC和验证中的应用
作者:
Yuri Granik
;
Nick Cobb
;
Dmitry Medvedev
;
SPIE-The International Society for Optical Engineering
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography》
|
2006年
关键词:
optical lithography;
optical proximity correction;
OPC;
lithographical models;
compact resist models;
VT5;
62.
SLM lithography: printing down to k1=0.30 without previous OPC processing
机译:
SLM光刻:在没有先前的OPC处理的情况下,打印到K1 = 0.30
作者:
Tor Sandstrom
;
Igor Ivonin
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography》
|
2006年
关键词:
SLM lithography;
low k;
optized illumination;
pupil filter;
real-time OPC;
masks;
pattern generator;
63.
SLM Lithography - printing down to k_1=0.30 without previous OPC processing
机译:
SLM光刻 - 在没有先前的OPC处理的情况下打印到K_1 = 0.30
作者:
Tor Sandstrom
;
Igor Ivonin
;
SPIE-The International Society for Optical Engineering
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography》
|
2006年
关键词:
SLM lithography;
low k_1;
optimized illumination;
pupil filter;
real-time OPC;
masks;
pattern generator;
64.
Second generation fluids for 193nm immersion lithography
机译:
193nm浸入式光刻的第二代流体
作者:
Roger H. French
;
Weiming Qiu
;
Min K. Yang
;
Robert C. Wheland
;
Michael F. Lemon
;
Aaron L. Shoe
;
Doug J. Adelman
;
Michael K. Crawford
;
Hoang V. Tran
;
Jerald Feldman
;
Steve J. McLain
;
Sheng Peng
;
SPIE-The International Society for Optical Engineering
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography》
|
2006年
关键词:
immersion;
second generation fluid;
hydrocarbons;
refractive index;
absorbance;
thermo-optic coefficient;
interference imaging;
fluid handling;
radiation durability;
active recycle;
65.
Heterogeneous diffusion model for simulation of resist process
机译:
抗蚀剂仿真的异质扩散模型
作者:
Chang Moon Lim
;
Jun Taek Park
;
Seo Min Kim
;
Hyeong Soo Kim
;
Seung Chan Moon
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography》
|
2006年
关键词:
lithography simulation;
resist model;
CD prediction;
heterogeneous diffusion;
66.
Alternating phase shift mask technology for 65nm logic applications
机译:
用于65nm逻辑应用的交替相移掩模技术
作者:
Kishore K. Chakravorty
;
Sven Henrichs
;
Wei Qiu
;
Joas L. Chavez
;
Yi-Ping Liu
;
Firoz Ghadiali
;
Karmen Yung
;
Nathan Wilcox
;
Mary Silva
;
Jian Ma
;
Ping Qu
;
Brian Irvine
;
Henry Yun
;
Wen-Hao Cheng
;
Jeff Farnsworth
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography》
|
2006年
67.
A novel approach for full chip SRAF printability check
机译:
全芯片SRAF可印刷性检查的新方法
作者:
Chi-Yuan Hung
;
Liguo Zhang
;
Qingwei Liu
;
SPIE-The International Society for Optical Engineering
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography》
|
2006年
关键词:
optical proximity correction (OPC);
sub design rule assistant feature (SRAF);
edge placement error (EPE);
calibre;
simulation-based;
68.
Heterogeneous Diffusion Model for Simulation of Resist Process
机译:
抗蚀剂仿真的异质扩散模型
作者:
Chang Moon Lim
;
Jun Taek Park
;
Seo Min Kim
;
Hyeong Soo Kim
;
Seung Chan Moon
;
SPIE-The International Society for Optical Engineering
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography》
|
2006年
关键词:
lithography simulation;
resist model;
CD prediction;
heterogeneous diffusion;
69.
Second generation fluids for 193nm immersion lithography
机译:
193nm浸入式光刻的第二代流体
作者:
Roger H. French
;
Weiming Qiu
;
Min K. Yang
;
Robert C. Wheland
;
Michael F. Lemon
;
Aaron L. Shoe
;
Doug J. Adelman
;
Michael K. Crawford
;
Hoang V. Tran
;
Jerald Feldman
;
Steve J. McLain
;
Sheng Peng
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography》
|
2006年
关键词:
immersion;
second gereration fluid;
hydrocarbons;
refractive index;
absorbance;
thermo;
opticoefficient;
interference imaging;
fluid handling;
radiation durability;
active recycle;
70.
High-Index fluoride materials for 193 nm Immersion Lithography
机译:
193 NM浸入光刻的高耐铅氟材料
作者:
T. Nawata
;
Y. Inui
;
I. Masada
;
E. Nishijima
;
H. Satoh
;
T. Fukuda
;
SPIE-The International Society for Optical Engineering
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography》
|
2006年
关键词:
BaF_2;
BaLiF_3;
KY_3F_(10);
high index;
immersion lithography;
czochralski;
single crystal;
71.
Alt- Phase Shift Mask Technology for 65nm Logic applications
机译:
用于65nm逻辑应用的ALT-相移掩模技术
作者:
Kishore K. Chakravorty
;
Sven Henrichs
;
Wei Qiu
;
Joas L. Chavez
;
Yi-Ping Liu
;
Firoz Ghadiali
;
Karmen Yung
;
Nathan Wilcox
;
Mary Silva
;
Jian Ma
;
Ping Qu
;
Brian Irvine
;
Henry Yun
;
Wen-Hao Cheng
;
Jeff Farnsworth
;
SPIE-The International Society for Optical Engineering
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography》
|
2006年
72.
Full-Field Exposure Tools for ArF Immersion Lithography
机译:
用于ARF浸入光刻的全场曝光工具
作者:
Jeung-woo Lee
;
Akihiko Otoguro
;
Toshiro Itani
;
Kiyoshi Fujii
;
Ken-ichi Shiraishi
;
Tomoharu Fujiwara
;
Yuuki Ishii
;
SPIE-The International Society for Optical Engineering
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography》
|
2006年
关键词:
immersion;
full-field;
topcoat;
uniformity;
immersion specific defect;
depth of focus;
73.
Full-field exposure tools for ArF immersion lithography
机译:
用于ARF浸入光刻的全场曝光工具
作者:
Jeung-woo Lee
;
Akihiko Otoguro
;
Toshiro Itani
;
Kiyoshi Fujii
;
Ken-ichi Shiraishi
;
Tomoharu Fujiwara
;
Yuki Ishii
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography》
|
2006年
关键词:
immersion;
full-field;
topcoat;
uniformity;
immersion specific defect;
depth f focus;
74.
High index fluoride materials for 193nm immersion lithography
机译:
高指数氟化物材料为193NM浸入式光刻
作者:
T. Nawata
;
Y. Inui
;
I. Masada
;
E. Nishijima
;
H. Satoh
;
T. Fukuda
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography》
|
2006年
关键词:
BaF_2;
BaLiF_3;
KY_3F_(10);
high inde;
immersion lithography;
czochralski;
single crystal;
75.
Implementation of Contact Hole Patterning Performance with KrF Resist Flow Process for 60nm Node DRAM Application
机译:
用KRF抗蚀剂流程实现60nm节点DRAM应用的接触孔图案化性能
作者:
Hyoung-ryeun Kim
;
Yeong-Bae Ahn
;
JongKuk Kim
;
SeokKyun Kim
;
DongHeok Park
;
Young-Sik Kim
;
SPIE-The International Society for Optical Engineering
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography》
|
2006年
关键词:
60nm DRAM;
contact holes;
KrF resist;
resist flow process;
76.
Implementation of contact hole patterning performance with KrF resist flow process for 60nm node DRAM application
机译:
用KRF抗蚀剂流程实现60nm节点DRAM应用的接触孔图案化性能
作者:
Hyoung-ryeun Kim
;
Yeong-Bae Ahn
;
JongKuk Kim
;
SeokKyun Kim
;
DongHeok Park
;
Young-Sik Kim
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography》
|
2006年
关键词:
60nm DRAM;
contact holes;
KrF resist;
resist flow process;
77.
Determination of Complex Index of Immersion liquids at 193nm
机译:
193nm浸渍液体复合指数的测定
作者:
Jean-Louis Stehle
;
Jean-Philippe Piel
;
Jose Campillo-Carreto
;
SPIE-The International Society for Optical Engineering
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography》
|
2006年
关键词:
lithography;
immersion;
liquid;
index;
integrated metrology;
78.
Flare Effect of Different Shape of Illumination Apertures in 193-nm Optical Lithography System
机译:
193-NM光学光刻系统中不同形状的照明孔径的耀斑效应
作者:
Young-Je Yun
;
Ju-Hyung Moon
;
Haeng-Leem Jeon
;
Jea-Hee Kim
;
Keeho Kim
;
SPIE-The International Society for Optical Engineering
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography》
|
2006年
关键词:
flare;
193-nm lithography;
critical dimension control;
79.
Three-dimensional imaging of 30-nm nanospheres using immersion interferometric lithography
机译:
使用浸没干涉光刻的30nm纳米球的三维成像
作者:
Jianming Zhou
;
Yongfa Fan
;
Bruce W. Smith
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography》
|
2006年
关键词:
immersion lithography;
photonic crystals;
interferometric lithography;
80.
Model-based Placement and Optimization of Sub-resolution Assist Features
机译:
基于模型的子分辨率辅助功能的位置和优化
作者:
Levi D. Barnes
;
Benjamin D Painter
;
Lawrence S. Melvin III
;
SPIE-The International Society for Optical Engineering
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography》
|
2006年
81.
Flare effect of different shape of illumination apertures in 193-nm optical lithography system
机译:
193-NM光学光刻系统中不同形状的照明孔径的耀斑效应
作者:
Young-Je Yun
;
Ju-Hyung Moon
;
Haeng-Leem Jeon
;
Jea-Hee Kim
;
Jea-Hee Kim
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography》
|
2006年
关键词:
Flare;
193 nm lithography;
critical dimension control;
82.
Influence of mask manufacturing process on printing behavior of angled line structures
机译:
面罩制造工艺对成角度线结构印刷行为的影响
作者:
Silvio Teuber
;
rndt C. Dr
;
Holger Herguth
;
Gerhard Kunkel
;
Timo Wandel
;
Thomas Zell
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography》
|
2006年
关键词:
Angled lines;
AIMS;
wafer printing;
line edge roughness;
83.
Model-based placement and optimization of subresolution assist features
机译:
基于模型的放置和优化子系统解决方案辅助功能
作者:
Levi D. Barnes
;
Benjamin D. Painter
;
Lawrence S. Melvin III
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography》
|
2006年
84.
A methodology to take LER effect into OPC modeling algorithm
机译:
一种对OPC建模算法对效果的方法
作者:
Chi-Yuan Hung
;
Qingwei Liu
;
Zexi Deng
;
Liguo Zhang
;
SPIE-The International Society for Optical Engineering
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography》
|
2006年
关键词:
model-based optical proximity correction (MOPC);
line edge roughness (LER);
variable threshold;
weighting function;
VT5;
85.
A methodology to take LER effect into OPC modeling algorithm
机译:
一种对OPC建模算法对效果的方法
作者:
Chi-Yuan Hung
;
Qingwei Liu
;
Zexi Deng
;
Liguo Zhang
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography》
|
2006年
关键词:
Model-Based Optical Proximity Correction;
line edge roughness;
Variable Threshold;
weighting function;
VT5;
86.
Using reconfigurable OPC to improve quality and throughput of sub-100nm IC manufacturing
机译:
使用可重构的OPC来提高Sub-100nm IC制造的质量和吞吐量
作者:
Richard D. Morse
;
Pat LoPresti
;
Kevin Corbett
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography》
|
2006年
87.
Using reconfigurable OPC to improve quality and throughput of sub-100nm IC manufacturing
机译:
使用可重构的OPC来提高Sub-100nm IC制造的质量和吞吐量
作者:
Richard D. Morse
;
Pat LoPresti
;
Kevin Corbett
;
SPIE-The International Society for Optical Engineering
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography》
|
2006年
88.
LIS design for optimum efficiency
机译:
LIS设计以获得最佳效率
作者:
Lev Ryzhikov
;
Yuli Vladimirsky
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography》
|
2006年
关键词:
laser illumination system;
LIS;
high NA;
microlithography tool;
illumination uniformity;
89.
LIS Design for Optimum Efficiency
机译:
LIS设计以获得最佳效率
作者:
Lev Ryzhikov
;
Yuli Vladimirsky
;
SPIE-The International Society for Optical Engineering
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography》
|
2006年
关键词:
laser illumination system;
LIS;
high NA;
microlithography tool;
illumination uniformity;
90.
Watermark defect formation and removal for immersion lithography
机译:
水印缺陷形成和移除浸入光刻
作者:
Ching-Yu Chang
;
Da-Ching Yu
;
John C. Lin
;
Burn J. Lin
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography》
|
2006年
关键词:
Immersion lithography;
deects;
water drop;
watermark;
leaching;
chemically amplified reaction;
TARC;
protective coating;
91.
Watermark Defect Formation and Removal for Immersion Lithography
机译:
水印缺陷形成和移除浸入光刻
作者:
Ching-Yu Chang
;
Da-Ching Yu
;
John C.H. Lin
;
Burn J. Lin
;
SPIE-The International Society for Optical Engineering
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography》
|
2006年
关键词:
immersion lithography;
defects;
water drop;
watermark;
leaching;
chemically amplified reaction;
TARC;
protective coating;
92.
Optimization of contact hole lithography for 65-nm node logic LSI
机译:
65-NM节点逻辑LSI的接触孔光刻优化
作者:
Yuji Setta
;
Hiroki Futatsuya
;
Atsushi Sagisaka
;
Tatsuo Chijimatsu
;
Takayoshi Minami
;
Fumitoshi Sugimoto
;
Seiichi Ishikawa
;
Satoru Asai
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography》
|
2006年
关键词:
DOF;
SRAF;
PSM;
RET;
OPC;
OAI;
93.
Dual antireflection layers for ARC/hard-mask applications
机译:
用于电弧/硬掩模应用的双抗反射层
作者:
Victor Huang
;
T.S. Wu
;
Mars Yang
;
Francis Lin
;
Elvis Yang
;
T.H. Yang
;
K.C. Chen
;
Joseph Ku
;
C.Y. Lua
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography》
|
2006年
关键词:
Antireflective coatings;
hard-masks;
dualDARC;
CD uniformity;
high NA;
94.
Optimization of Contact Hole Lithography for 65-nm node Logic LSI
机译:
65-NM节点逻辑LSI的接触孔光刻优化
作者:
Yuji Setta
;
Hiroki Futatsuya
;
Atsushi Sagisaka
;
Tatsuo Chijimatsu
;
Takayoshi Minami
;
Fumitoshi Sugimoto
;
Seiichi Ishikawa
;
Satoru Asai
;
SPIE-The International Society for Optical Engineering
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography》
|
2006年
关键词:
DOF;
SRAF;
PSM;
MEF;
RET;
OPC;
OAI;
95.
Positive and Negative Tone Double Patterning Lithography For 50nm Flash Memory
机译:
用于50nm闪存的正负色调双图案化光刻
作者:
Chang-Moon Lim
;
Seo-Min Kim
;
Young-Sun Hwang
;
Jae-Seung Choi
;
Keun-Do Ban
;
Sung-Yoon Cho
;
Jin-Ki Jung
;
Eung-Kil Kang
;
Hee-Youl Lim
;
Hyeong-Soo Kim
;
Seung-Chan Moon
;
SPIE-The International Society for Optical Engineering
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography》
|
2006年
关键词:
double patterning;
double exposure;
CD uniformity;
96.
Novel high refractive index fluids for 193nm immersion lithography
机译:
用于193nm浸入光刻的新型高折射率液
作者:
Julius Santillan
;
Akihiko Otoguro
;
Toshiro Itani
;
Kiyoshi Fujii
;
Akifumi Kagayama
;
Takashi Nakano
;
Norio Nakayama
;
Hiroaki Tamatani
;
Shin Fukuda
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography》
|
2006年
关键词:
193 nm;
immersion lithography;
high refractive index;
fluids;
97.
Drag-a-drop: a characterization tool for immersion lithography
机译:
拖动:浸入光刻的表征工具
作者:
Derek W. Bassett
;
J. Chris Taylor
;
Will Conley
;
C. Grant Willson
;
Roger T. Bonnecaze
;
SPIE-The International Society for Optical Engineering
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography》
|
2006年
关键词:
immersion lithography;
fluid management;
contact angle;
stability limits;
laser mask writing;
98.
Novel High Refractive Index Fluids for 193-nm immersion lithography
机译:
用于193-NM浸入光刻的新型高折射率液
作者:
Julius Santillan
;
Akihiko Otoguro
;
Toshiro Itani
;
Kiyoshi Fujii
;
Akifumi Kagayama
;
Takashi Nakano
;
Norio Nakayama
;
Hiroaki Tamatani
;
Shin Fukuda
;
SPIE-The International Society for Optical Engineering
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography》
|
2006年
关键词:
193-nm;
immersion lithography;
high refractive index;
fluids;
99.
Application of aberration optimization for specific pattern using Nikon's TAO method
机译:
尼康涛法对特定模式的应用差异
作者:
Winfried Meier
;
Gabriele Weirauch
;
Max Hoepfl
;
Andreas Jahnke
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography》
|
2006年
关键词:
Wavefront aberration;
specific aberration tuning;
projection lens;
photolighography CD control;
zernike sensitivity;
100.
Positive and negative tone double patterning lithography for 50nm flash memory
机译:
用于50nm闪存的正负色调双图案化光刻
作者:
Chang-Moon Lim
;
Seo-Min Kim
;
Young-Sun Hwang
;
Jae-Seung Choi
;
Keun-Do Ban
;
Sung-Yoon Cho
;
Jin-Ki Jung
;
Eung-Kil Kang
;
Hee-Youl Lim
;
Hyeong-Soo Kim
;
Seung-Chan Moon
会议名称:
《Conference on Optical Microlithography》
|
2006年
关键词:
Double Patterning;
double exposure;
CD uniformity;
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