Tokyo Electron AT Ltd. 650 Mitsuzawa, Hosaka-machi, Nirasaki-shi Yamanashi-ken 407-0192, Japan;
157-nm resist; ammonia durability; post exposure delay; post coating delay; PAG; quencher; adsorption;
机译:适用于193和157 nm光刻应用的低碱性污染底部抗反射涂层
机译:对DUV光刻区域中的空气传播的分子污染进行实时监控
机译:甲氨蝶呤污染-中国2007
机译:157-nm光刻 - 氨污染影响的空气污染控制 - (PPT)
机译:表征和定量工业动物农业中的空气中氨和挥发性有机化合物。
机译:手术烟雾和空中微生物污染在操作剧院:通风和手术阶段的影响
机译:从鸡肉肠中分离的双歧杆菌与聚乙烯吡咯烷酮对缺血性研究的减少表现出协同作用
机译:评估用于测量受控环境中空气污染水平的自动气溶胶粒子计数器