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International Symposium on 157nm Lithography
International Symposium on 157nm Lithography
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1.
Airborne Contamination Control in 157-nm Lithography-Influence of Ammonia Contamination - (PPT)
机译:
157-nm光刻 - 氨污染影响的空气污染控制 - (PPT)
作者:
Hidefumi Matsui
;
Junichi Kitano
;
Kosuke Yoshihara
;
Etsurou Kawaguchi
;
Takamitsu Furukawa
;
Kentaro Matsunaga
;
Toshiro Itani
会议名称:
《International Symposium on 157nm Lithography》
|
2003年
2.
Prediction of CaF_2 Optical Properties from Thermal-Stress Models - (PPT)
机译:
从热应力模型预测CAF_2光学性质 - (PPT)
作者:
John Abbott
;
Liming Wang
;
Michael Price
;
Douglas Allan
;
Irene Slater
会议名称:
《International Symposium on 157nm Lithography》
|
2003年
3.
New Fluorinated Resists For Application in 157 nm Lithography - (PPT)
机译:
157 nm光刻应用的新型氟化抗性 - (PPT)
作者:
Frank Houlihan
;
Raj Sakamuri
;
David Rentkiewicz
;
Andrew Romano
;
Ralph R. Dammel
;
Michael Sebald
;
Nickolay Stepanenko
;
Christoph Hohle
;
Larry Rhodes
;
Joe McDaniel
;
Chun Chang
;
Will Conley
;
Georgia Rich
;
Daniel Miller
;
Toshiro Itani
;
Masato Shigematsu
;
Ets
会议名称:
《International Symposium on 157nm Lithography》
|
2003年
4.
Compensation of the birefringence induced by the spatial dispersion in lithographic optical design - (PPT)
机译:
光刻光学设计中空间分散诱导的双折射补偿 - (PPT)
作者:
Alexander Serebriakov
;
Florian Bociort
;
Joseph Braat
会议名称:
《International Symposium on 157nm Lithography》
|
2003年
5.
157nm Photodegradation of Fluoropolymer Model Compounds - (PPT)
机译:
157NM含氟聚合物模型化合物的光降解 - (PPT)
作者:
F. Eschbach
;
A. Tregub
;
K. Orvek
;
J. Powers
;
F. C. Lo
会议名称:
《International Symposium on 157nm Lithography》
|
2003年
6.
Effects of Airborne Molecular Contamination on 157nm Resists - (PPT)
机译:
空气传播分子污染对157nm抗蚀剂的影响 - (PPT)
作者:
Jeff Meute
;
Kim Dean
;
Will Conley
;
Karen Turnquest
;
Georgia Rich
;
Danny Miller
;
Shashi PateI
;
Greg Wallraff
;
Carl Larson
;
Robert Allen
;
Bill Hinsberg
;
Heather Johnson
;
Grant Willson
会议名称:
《International Symposium on 157nm Lithography》
|
2003年
7.
157nm Immersion the Future - (PPT)
机译:
157nm浸没未来 - (PPT)
作者:
Walter J. Trybula
会议名称:
《International Symposium on 157nm Lithography》
|
2003年
8.
A Development of Organic Bottom Antireflective Coating (BARC) for 157-nm Lithography - (PPT)
机译:
有机底抗反射涂层(BARC)的开发157-NM光刻 - (PPT)
作者:
Shigeo Irie
;
Masato Shigematsu
;
Toshiro Itani
;
Rikimaru Sakamoto
;
Kenichi Mizusawa
;
Yasuyuki Nakajima
会议名称:
《International Symposium on 157nm Lithography》
|
2003年
9.
Advances in Fluorinated Polymers for 157nm Lithography; a progress report - (PPT)
机译:
氟化聚合物的进展为157nm光刻;进度报告 - (PPT)
作者:
Will Conley
;
Paul Zimmerman
;
Daniel Miller
;
Shiro Kusomoto
;
Matt Pinnow
;
Charles Chambers
;
Ryan Callahan
;
Brian Osborn
;
Brian Trinque
;
Michitaka Ootani
;
Leslie Carpenter
;
Dan Sanders
;
Robert Grubbs
;
Stelian Grigoras
;
C. Grant Willson
会议名称:
《International Symposium on 157nm Lithography》
|
2003年
10.
Finite-Element-Analysis of Photomask Distortions - (PPT)
机译:
Photomask扭曲的有限元分析 - (PPT)
作者:
Christian C. Lutzenberger
;
Christof M. Schilz
会议名称:
《International Symposium on 157nm Lithography》
|
2003年
11.
Performances of Main-chain Fluoropolymer Resists for 157-nm lithography - (PPT)
机译:
主链含氟聚合物的性能抗蚀剂157-NM光刻 - (PPT)
作者:
Shigeo Irie
;
Takuya Hagiwara
;
Toshiro Itani
;
Yasuhide Kawaguchi
;
Osamu Yokokoji
;
Syun-ichi Kodama
会议名称:
《International Symposium on 157nm Lithography》
|
2003年
12.
Mounting of Fused Silica Pellicles for 157nm Lithography - (PPT)
机译:
安装熔融二氧化硅颗粒157nm光刻 - (PPT)
作者:
Chris Van Peski
;
Andrew Grenville
;
Roxann L. Engelstad
;
Eric P. Cote
;
Emily Shu
会议名称:
《International Symposium on 157nm Lithography》
|
2003年
13.
Image Formation In A Lens With Spatial Dispersion (Intrinsic Birefringence) - (PPT)
机译:
具有空间分散的镜片中的图像形成(固有双折射) - (PPT)
作者:
Alan E. Rosenbluth
;
Gregg Gallatin
;
Nakgeuon Seong
;
Olaf Dittmann
;
Michael Totzeck
会议名称:
《International Symposium on 157nm Lithography》
|
2003年
14.
Development of Hard pellicle for 157 nm lithography - (PPT)
机译:
157 nm光刻的硬质薄膜的开发 - (PPT)
作者:
K. Okada
;
I. Ishikawa
;
K. Outa
;
K. Ootsuka
;
M. Iitou
;
H. kojima
;
Y. Ikuta
;
T. Kawahara
;
T. Minematsu
;
H. Mishiro
;
S. Kikugawa
;
Y. Sasuga
会议名称:
《International Symposium on 157nm Lithography》
|
2003年
15.
Advanced Lithography Research in the US using 157nm as a case study - (PPT)
机译:
使用157nm作为案例研究的美国先进的光刻研究 - (PPT)
作者:
Giang Dao
;
Tony Yen
;
Walt Trybula
会议名称:
《International Symposium on 157nm Lithography》
|
2003年
16.
Design of Novel Fluorinated Dissolution Inhibitors for 157 nm Lithography - (PPT)
机译:
157 nm光刻的新型氟化溶解抑制剂的设计 - (PPT)
作者:
S. Jahromi
;
F. Derks
;
A. Lyapunov
;
M. Gusev
;
V. Melnikov
;
G. Smith
;
C. Goemans
会议名称:
《International Symposium on 157nm Lithography》
|
2003年
17.
Design of Novel Fluorinated Dissolution Inhibitors for 157nm Lithography - (PPT)
机译:
157nm光刻的新型氟化溶解抑制剂的设计 - (PPT)
作者:
S. Jahromi
;
F. Derks
;
A. Lyapunov
;
M. Gusev
;
V. Melnikov
;
G. Smith
;
C. Goemans
会议名称:
《International Symposium on 157nm Lithography》
|
2003年
18.
OPC Groundrule Development for 65nm Imaging with High NA 157nm Imaging - (PPT)
机译:
高NA 157NM成像的OPC发生研发65nm成像 - (PPT)
作者:
Will Conley
;
Kevin Lucas
;
Bernie Roman
;
Kyle Spurlock
;
Robert Morton
;
Daniel Miller
;
Vicki Graffenberg
会议名称:
《International Symposium on 157nm Lithography》
|
2003年
19.
Negative Photoresist for 157 nm Microlithography - (PPT)
机译:
负光致抗蚀剂用于157nm的微光线 - (PPT)
作者:
Brian Trinque
;
Stefan Caporale
;
Will Conley
;
Daniel Miller
;
Charles Chambers
;
Shiro Kumamoto
;
Matthew Pinnow
;
Ryan Callahan
;
Paul Zimmerman
;
C. Grant Willson
会议名称:
《International Symposium on 157nm Lithography》
|
2003年
20.
Resist and Cover Material Development Status for 157nm Immersion Lithography - (PPT)
机译:
抗蚀剂和覆盖材料开发状态157nm浸入式光刻 - (PPT)
作者:
Mitsuru Sato
;
Taku Hirayama
;
Masaaki Yoshida
;
Keita Ishiduka
;
Hiromitsu Tsuji
;
Kotaro Endo
会议名称:
《International Symposium on 157nm Lithography》
|
2003年
21.
Hard pellicle investigation for 157 nm lithography: Impact on overlay - (PPT)
机译:
157 nm光刻的硬薄膜调查:对叠加的影响 - (PPT)
作者:
Richard Bruls
;
Orlando Cicilia
;
Tammo Uitterdijk
;
Peter De Bisschop
;
Michael Kocsis
会议名称:
《International Symposium on 157nm Lithography》
|
2003年
22.
Phase-shifting Mask for 157nm Lithography - (PPT)
机译:
157nm光刻的相移掩模 - (PPT)
作者:
Kunio Watanabe
;
Shigeo Irie
;
Eiji Kurose
;
Toshifumi Suganaga
;
Toshiro Itani
会议名称:
《International Symposium on 157nm Lithography》
|
2003年
23.
Growth of Large Calcium Fluoride Single Crystal by CZ Method - (PPT)
机译:
CZ法的大氟化钙单晶的生长 - (PPT)
作者:
Y. Inui
;
T. Nawata
;
H. Yanagi
;
E. Nishijima
;
N. Kuramoto
;
T. Fukuda
会议名称:
《International Symposium on 157nm Lithography》
|
2003年
24.
Advances in TFE Based Fluoropolymers for 157nm Lithography: A Progress Report - (PPT)
机译:
TFE基于TFE的含氟聚合物进展157nm光刻:进度报告 - (PPT)
作者:
Iqbal Sharif
;
Norman Lu
;
Darryl DesMarteau
;
Larry Ford
;
Greg Shafer
;
Brian Thomas
;
Will Conley
;
Paul Zimmerman
;
Daniel Miller
;
Guen Su Lee
;
Ryan Callahan
;
Charles Chambers
;
Brian Trinque
;
Takashi Chiba
;
Brian Osborn
;
C. Grant Willson
会议名称:
《International Symposium on 157nm Lithography》
|
2003年
25.
Deblocking Reactions of Blocked Fluorine-containing Polar Units in F2 Resist - (PPT)
机译:
F2抗蚀剂中含有封闭的含氟极性单元的去块反应 - (PPT)
作者:
M. Shirai
;
Y. Horiguchi
;
T. Shinozuka
;
T. Itani
会议名称:
《International Symposium on 157nm Lithography》
|
2003年
26.
Modification of Optical Coatings Under Long Term Laser Irradiation - (PPT)
机译:
长期激光辐照下光学涂层的改变 - (PPT)
作者:
V. Liberman
;
T. M. Bloomstein
;
M. Rothschild
;
S. T. Palmacci
;
J. H. C. Sedlacek
;
A. Grenville
会议名称:
《International Symposium on 157nm Lithography》
|
2003年
27.
Understanding Degradation Mechanisms of Materials during Exposure at 157nm: The Search for a New Soft Pellicle Solution - (PPT)
机译:
理解157nm暴露过程中材料的降解机制:寻找新的软薄膜解决方案 - (PPT)
作者:
Paul A. Zimmerman
;
Daniel Miller
;
Gene Feit
;
Andrew Whittaker
;
David Hill
;
Firas Rasoul
;
Heping Liu
;
Idriss Blakely
;
Graeme George
;
Nicolas J. Turro
;
Kwangjoo Lee
;
Steffen Jockusch
;
Andrew Proctor
;
Cesar Garza
;
Roger H. French
;
Robert C. Wheland
会议名称:
《International Symposium on 157nm Lithography》
|
2003年
28.
Development of High Power Excimer Lasers for 157 nm Lithography - (PPT)
机译:
157 nm光刻的高功率准分子激光器的开发 - (PPT)
作者:
Stefan Spratte
;
Frank Voss
;
Igor Bragin
;
Elko Bergmann
;
Norbert Niemoeller
;
Tamas Nagy
;
Andreas Targsdorf
;
Rainer Paetzel
;
Sergei Govorkov
;
Gongxue Hua
会议名称:
《International Symposium on 157nm Lithography》
|
2003年
29.
Development of High Power MOPO Laser Platform for VUV Microlithography - (PPT)
机译:
高功率MOPO激光平台的VUV微光线 - (PPT)的研制
作者:
Kouji Kakizaki
;
Osamu Wakabayashi
;
Tatsuya Ariga
;
Hidenori Watanabe
;
Takahito Kumazaki
;
Kotaro Sasano
;
Junichi Fujimoto
;
Taku Yamazaki
;
Toru Suzuki
;
Takashi Matsunaga
;
Yasufumi Kawasuji
;
Toyoharu Inoue
;
Akira Sumitani
;
Hakaru Mizoguchi
会议名称:
《International Symposium on 157nm Lithography》
|
2003年
30.
Properties of large CaF_2 crystals grown by CZ method for lens materials - (PPT)
机译:
CZ镜片材料中CZ方法种植的大CAF_2晶体的性质 - (PPT)
作者:
H. Yanagi
;
T. Nawata
;
E. Nishijima
;
N. Kuramoto
;
T. Fukuda
会议名称:
《International Symposium on 157nm Lithography》
|
2003年
31.
Simulation Studies on the Temperature Distribution of CaF_2 Annealing Furnace - (PPT)
机译:
CAF_2退火炉温度分布的仿真研究 - (PPT)
作者:
N. Senguttuvan
;
A. Gunji
;
M. Aoshima
;
K. Sumiya
;
K. Susa
会议名称:
《International Symposium on 157nm Lithography》
|
2003年
32.
Initial assessment of the impact of the use of a Hard Pellicle on Imaging - (PPT)
机译:
初步评估硬薄膜对成像的影响 - (PPT)
作者:
Peter De Bisschop
;
Michael Kocsis
;
Richard Bruls
;
Orlando Cicilia
;
Tammo Uitterdijk
;
Andrew Grenville
;
Chris Van Peski
会议名称:
《International Symposium on 157nm Lithography》
|
2003年
33.
Resist pattern transfer process for 65-nm node technology using 157-nm lithography - (PPT)
机译:
使用157-NM光刻 - (PPT)的65-NM节点技术的抗蚀模式转移过程 - (PPT)
作者:
Takamitsu Furukawa
;
Takuya Hagiwara
;
Etsurou Kawaguchi
;
Toshiro Itani
会议名称:
《International Symposium on 157nm Lithography》
|
2003年
34.
157 nm Full Field Imaging - (PPT)
机译:
157 NM全场成像 - (PPT)
作者:
Jan Hermans
;
F. Van Roey
;
D. Van den Heuvel
;
R. Gronheid
;
S. Light
;
A. M. Goethals
;
K. Ronse
;
R. Watso
;
D. Mc Cafferty
;
T. ONeil
;
H. Sewell
会议名称:
《International Symposium on 157nm Lithography》
|
2003年
35.
Passivation of the 157 nm Pellicle with Nanometer Thin Films - (PPT)
机译:
用纳米薄膜钝化157 nm薄膜 - (PPT)
作者:
Yue Kuo
;
Jiang Lu
;
Jun-Yen Tewg
;
Paul A. Zimmerman
;
Danny Miller
会议名称:
《International Symposium on 157nm Lithography》
|
2003年
36.
Quality Status of CaF_2 for 157nm Exposure Tools - (PPT)
机译:
157nm曝光工具的CAF_2的质量状况 - (PPT)
作者:
Jorg Hahn
;
Gunter Grabosch
;
Lutz Parthier
;
Konrad Knapp
会议名称:
《International Symposium on 157nm Lithography》
|
2003年
37.
Project Scope and Objectives - (PPT)
机译:
项目范围和目标 - (PPT)
作者:
Kyle Spurlock
;
Rick Schwerdtfeger
;
Rick Johnson
;
Joseph L. Rose
;
Roger L. Royer
会议名称:
《International Symposium on 157nm Lithography》
|
2003年
38.
UV2Litho Usable Vacuum Ultra Violet Lithography - (PPT)
机译:
UV2Litho可用的真空超紫紫色光刻 - (PPT)
作者:
A. M. Goethals
;
R. Jonckheere
;
F. Van Roey
;
D. Van den Heuvel
;
A. Eliat
;
R. Gronheid
;
K. Ronse
;
P. Wong
;
R. Morton
;
M. Vasconi
;
E. Severgnini
;
C. Hohle
;
M. Sebald
;
D. Henry
;
Ph. Thony
;
P. Schiavone
;
D. Fuard
会议名称:
《International Symposium on 157nm Lithography》
|
2003年
39.
Study on the Impact of 157nm Hard Pellicles on the Imaging Quality of the 157nm AIMS System - (PPT)
机译:
157nm硬颗粒对157nm AIMS系统成像质量的影响 - (PPT)
作者:
Silvio Teuber
;
C. M. Schilz
;
R. Kohle
;
I. Higshikawa
;
J. P. Urbach
;
P. Kuschnerus
;
A. Zibold
;
W. Degel
;
T. Engel
会议名称:
《International Symposium on 157nm Lithography》
|
2003年
40.
Fluids for 157nm Immersion Lithography - (PPT)
机译:
157nm浸入式光刻的流体 - (PPT)
作者:
Roger H. French
;
Robert C. Wheland
;
Weiming Qiu
;
Michael F. Lemon
;
Sheng Peng
会议名称:
《International Symposium on 157nm Lithography》
|
2003年
41.
CaF_2 for lens fabrication: Symmetry considerations and basic material properties - (PPT)
机译:
CAF_2用于镜片制造:对称考虑和基本材料特性 - (PPT)
作者:
M. Letz
;
A. Gottwald
;
M. Richter
;
L. Parthier
;
K. Knapp
会议名称:
《International Symposium on 157nm Lithography》
|
2003年
42.
Novel Main-chain-Fluorinated Polymers for 157-nm Photoresists - (PPT)
机译:
用于157-nm光致抗蚀剂的新型主链氟化聚合物 - (PPT)
作者:
T. Moriya
;
T. Ishikawa
;
T. Kodani
;
M. Koh
;
T. Yamashita
;
T. Araki
;
M. Toriumi
;
H. Aoyama
;
T. Furukawa
;
T. Hagiwara
;
T. Itani
会议名称:
《International Symposium on 157nm Lithography》
|
2003年
43.
157nm Binary and Embedded Attenuated PSM Films - (PPT)
机译:
157nm二进制和嵌入式减毒PSM电影 - (PPT)
作者:
Matthew Lassiter
;
Mike Cangemi
;
Darren Taylor
;
Patrick Martin
会议名称:
《International Symposium on 157nm Lithography》
|
2003年
44.
Experimental Investigation of Hard Pellicle Purge Processes for 157-nm Lithography - (PPT)
机译:
157-NM光刻 - (PPT)硬薄膜吹扫过程的实验研究 - (PPT)
作者:
Amr Abdo
;
Aya Diab
;
Eric Cotte
;
Aaron Chalekian
;
Gregory Nellis
;
Roxann Engelstad
;
Edward Lovell
;
Chris Van Peski
会议名称:
《International Symposium on 157nm Lithography》
|
2003年
45.
The Extendibility of Wet Optical Lithography - (PPT)
机译:
湿光学光刻的可扩展性 - (PPT)
作者:
Will Conley
;
Cesar Garza
;
Donis Flagello
;
Robert Socha
;
Peter Brooker
会议名称:
《International Symposium on 157nm Lithography》
|
2003年
46.
PSM Evaluation by AIMS157 Beta Tool - (PPT)
机译:
AIMS157 Beta工具的PSM评估 - (PPT)
作者:
Takashi Yasui
;
Iwao Higashikawa
;
Peter Kuschnerus
;
Thomas Engel
;
Axel Zibold
;
Jan-Peter Urbach
;
Christof M. Schilz
;
Silvio Teuber
会议名称:
《International Symposium on 157nm Lithography》
|
2003年
47.
Combined Advanced in-situ Cleaning and Metrology Process for 157nm Lithography and EUV Mask Technology - (PPT)
机译:
157nm光刻和EUV面罩技术的高级原位清洗和计量过程 - (PPT)
作者:
P. Dress
;
C. M. Schilz
;
J. Szekeresch
会议名称:
《International Symposium on 157nm Lithography》
|
2003年
48.
In-Situ Monitoring Strain and Deflection Field of a Hard Pellicle During Mounting Process with a PZT Sensor Array - (PPT)
机译:
用PZT传感器阵列安装过程中硬质膜的原位监测应变和偏转场 - (PPT)
作者:
Emily Y. Shu
;
Amitabh Chatterjee
;
Goutam Paul
会议名称:
《International Symposium on 157nm Lithography》
|
2003年
49.
Improved Pellicles for 157 nm-Lithography - A Nanocomposite Approach - (PPT)
机译:
改进的157 nm-光刻 - 一种纳米复合材料方法 - (PPT)
作者:
V. Liberman
;
J. H. C. Sedlacek
;
T. H. Fedynyshyn
;
R. B. Goodman
;
M. Rothschild
;
R. Sinta
会议名称:
《International Symposium on 157nm Lithography》
|
2003年
50.
Fluids for Immersion Lithography at 157 nm - (PPT)
机译:
浸入157nm - (PPT)的浸入光刻的流体
作者:
M. Switkes
;
R. R. Kunz
;
R. F. Sinta
;
J. Curtin
;
M. Rothschild
会议名称:
《International Symposium on 157nm Lithography》
|
2003年
51.
International Symposium on 157 nm Lithography - (PPT)
机译:
157 nm光刻的国际研讨会 - (PPT)
作者:
Wakamiya-Selete
会议名称:
《International Symposium on 157nm Lithography》
|
2003年
52.
Development of Fluoropolymer Membranes Transparent and Resistant to 157 nm Exposure - (PPT)
机译:
含氟聚合物膜的研制透明和耐157nm暴露 - (ppt)
作者:
A. Tregub
;
F. Eschbach
;
J. Powers
;
F. C. Lo
;
S. Shigematsu
;
H. Nakagawa
会议名称:
《International Symposium on 157nm Lithography》
|
2003年
53.
Progress toward Development of 157 nm Positive Resists - (PPT)
机译:
发展157 nm阳性抗性的进展 - (PPT)
作者:
Hiroshi Ito
;
Hoa D. Truong
;
Richard A. DiPietro
;
Phillip Brock
;
Gregory Breyta
;
Carl E. Larson
;
Gregory M. Wallraff
;
R. Sooriyakumaran
;
William D. Hinsberg
;
Jeff Meute
;
Wu-Song Huang
;
Robert D. Allen
会议名称:
《International Symposium on 157nm Lithography》
|
2003年
54.
Outgassed Species from Various Triphenylsulfonium Salts during 157 nm Exposure - (PPT)
机译:
在157nm暴露期间,来自各种三苯基锍盐的散裂物种 - (PPT)
作者:
Yoshinori Matsui
;
Shu Seki
;
Seiichi Tagawa
;
Shigeo Irie
;
Toshiro Itani
会议名称:
《International Symposium on 157nm Lithography》
|
2003年
55.
Advances in the altPSM Development for 157nm AIMS and Exposure Tests for Process Development - (PPT)
机译:
ALTPSM开发的进步157nm的目标和流程开发的曝光测试 - (PPT)
作者:
Silvio Teuber
;
Annett Graeser
;
Christof M. Schilz
;
Josef Mathuni
;
Roderick Koehle
;
Nickolay Stepanenko
;
Peter Kuschnerus
;
Wolfgang Degel
会议名称:
《International Symposium on 157nm Lithography》
|
2003年
56.
Nikon F2 Exposure Tool Development - (PPT)
机译:
尼康F2曝光工具开发 - (PPT)
作者:
Naomasa Shiraishi
;
Kazuhiro Kido
;
Jun Nagatsuka
;
Yasuhiro Ohmura
;
Takashi Aoki
;
Jin Nishikawa
;
Hiroyuki Nagasaka
;
Takeyuki Mizutani
;
Soichi Owa
会议名称:
《International Symposium on 157nm Lithography》
|
2003年
57.
PROGRESS IN THE DEVELOPMENT OF COMPACT EXCIMER LASERS FOR METROLOGY AND INSPECTION SYSTEMS AT 157 nm - (PPT)
机译:
157 nm - (PPT)测量测量系统的紧凑型准分子激光器的进展
作者:
Andreas Gortler
;
Alexander Hohla
;
Claus Strowitzki
会议名称:
《International Symposium on 157nm Lithography》
|
2003年
58.
Post mounted flatness measurement of hard pellicle - (PPT)
机译:
硬质薄膜的后安装平面测量 - (PPT)
作者:
Iwao Higashikawa
;
Hironao Sasaki
;
Takayuki Murakami
会议名称:
《International Symposium on 157nm Lithography》
|
2003年
59.
Advancements in 157nm Resist Performance - (PPT)
机译:
157nm抗拒性能的进步 - (PPT)
作者:
K. Turnquest
;
K. Dean
;
V. Graffenberg
;
D. Miller
;
S. Patel
;
G. Rich
会议名称:
《International Symposium on 157nm Lithography》
|
2003年
60.
157-nm Lithography for 65-nm Node SRAM-Gate - (PPT)
机译:
65-NM节点SRAM-GATE的157-NM光刻 - (PPT)
作者:
Toshifumi Suganaga
;
Shigeo Irie
;
Kunio Watanabe
;
Jae-Hwan Kim
;
Eiji Kurose
;
Takamitsu Furukawa
;
Takuya Hagiwara
;
Toshiyuki Ishimaru
;
Toshiro Itani
会议名称:
《International Symposium on 157nm Lithography》
|
2003年
61.
BIREFRINGENCE MEASUREMENT RESULTS OF CaF_2 SAMPLES USING THE EXICOR DUV SYSTEM - (PPT)
机译:
使用Exicor Duv System的CAF_2样品的双折射测量结果 - (PPT)
作者:
Baoliang (Bob) Wang
会议名称:
《International Symposium on 157nm Lithography》
|
2003年
62.
Development of 157nm Exposure Tools - (PPT)
机译:
开发157nm曝光工具 - (PPT)
作者:
Hideo Hata
;
Hitoshi Nakano
;
Shigeyuki Suda
;
Kazuhiro Takahashi
;
Ryo Koizumi
;
Yuji Chiba
;
Hideki Nogawa
会议名称:
《International Symposium on 157nm Lithography》
|
2003年
63.
Ultra-Low Voltage Electron Beam Metrology of 157nm Photoresist - (PPT)
机译:
157nm光致抗蚀剂的超低电压电子束计量 - (PPT)
作者:
Ganesh Sundaram
;
Tung Mai
;
Neal Sullivan
会议名称:
《International Symposium on 157nm Lithography》
|
2003年
64.
From Development to Production 157nm Lithography Exposure Tools - (PPT)
机译:
从开发到生产157nm光刻曝光工具 - (PPT)
作者:
Theo Modderman
;
Tim ONeill
;
Hans Jasper
;
Harry Sewell
;
Bruce Tirri
;
Herman Boom
;
Tammo Uiterdijk
;
Stephane Dana
;
Martin Brunotte
;
Birgit Mecking
;
Winfried Kaiser
会议名称:
《International Symposium on 157nm Lithography》
|
2003年
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