157nm光刻面临的各种挑战

金友

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@@ 硅谷集团于1998年开始了一项极具挑战性和风险性的研究工作-157nm光刻的研究.在该项研究中,硅谷集团与工业界专家们建立了伙伴关系,其目的旨在寻求战胜这些挑战的合适方法.这些合作研究涉及157nm光刻的各方面问题,其中包括支撑曝光设备所需要的基础研究,例如光刻胶、光掩模(掩模母版)和先进的计量测试技术等.

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来源
《光机电信息》 |2002年第8期|16-19|共4页
作者
金友;
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作者单位

无;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类光电子技术、激光技术;
关键词
光刻; 光刻胶; 加工工艺; 薄膜; 污染; 净化;

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