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157nm紫外光刻设备用光学材料研究进展

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摘要

介绍了半导体制造业专用设备,紫外光刻设备所使用的光学材料.介绍了该材料的选择,研究现状,该材料制造工艺技术的创新,以及与材料制造技术相配套的技术发展状况,同时分析了国际市场现状及该技术的发展趋势.

著录项

来源
《材料导报》 |2003年第6期|34-36|共3页
作者
臧春雨; 曹望和; 石春山;
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作者单位

中科院长春光学精密机械与物理研究所,长春,130022;

大连海事大学数理系,大连,116000;

中科院长春应用化学研究所,长春,130022;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类工程材料学;
关键词
半导体制造业 157nm紫外光刻技术 CaF2晶体双折射;

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