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快速热处理过程中控制半导体晶片的热梯度的方法和结构

摘要

本发明公开了快速热处理过程中控制半导体晶片的热梯度的方法和结构。一种物件在热处理过程中支撑工件。至少三个例如支撑钉的延长的支撑构件从例如支撑工件的支撑臂的元件延伸。每个支撑构件包括邻接工件的第一部分。第二部分自第一部分向下延伸。第一部分可以具有比工件的热响应快的热响应,第二部分可以具有较慢的热响应。可拆卸元件可以安装至支撑构件,以调节支撑构件的热响应。采用可拆卸元件,支撑构件可以调节为不引起至或自工件的净剩热传输。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-12-22

    专利权的转移 IPC(主分类):H01L 21/687 登记生效日:20171201 变更前: 变更后: 申请日:20090108

    专利申请权、专利权的转移

  • 2017-12-22

    专利权的转移 IPC(主分类):H01L 21/687 登记生效日:20171201 变更前: 变更后: 申请日:20090108

    专利申请权、专利权的转移

  • 2011-04-06

    授权

    授权

  • 2011-04-06

    授权

    授权

  • 2009-09-09

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2009-09-09

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2009-07-15

    公开

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  • 2009-07-15

    公开

    公开

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