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静态存储单元的形成方法及静态存储单元

摘要

本发明提供了一种静态存储单元的形成方法及静态存储单元,首先单独对所述鳍部中的源极区域执行第一离子注入工艺,然后再对所述源极区域及漏极区域执行第二离子注入工艺,以形成源极和漏极,使所述源极的掺杂浓度较所述漏极的掺杂浓度大,后续对静态存储单元进行读写操作时,所述源极到所述漏极的电流与所述漏极到所述源极的电流是不相等的,即读取电流与写入电流不相等,进而降低了读/写裕量,提高了器件的可靠性和性能。

著录项

  • 公开/公告号CN110828380B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-06-17

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN201810923960.3

  • 发明设计人 王楠;

    申请日2018-08-14

  • 分类号H01L21/8244;H01L27/11;H01L21/336;H01L21/78;H01L29/08;

  • 代理机构上海思微知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人屈蘅

  • 地址 201203 上海市浦东新区张江路18号

  • 入库时间 2022-08-23 13:52:16

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