首页> 中国专利> 放射线敏感性树脂组合物、树脂图案膜及其形成方法以及树脂图案膜的应用

放射线敏感性树脂组合物、树脂图案膜及其形成方法以及树脂图案膜的应用

摘要

本发明涉及含有与具有芳基和极性基团的基团结合的脂环式烯烃树脂、酸发生剂、交联剂,以及溶剂的放射线敏感性树脂组合物,除具有优良的低介电常数、平坦性、透明性以及耐溶剂性以外,还具有优良的分辨率、残膜率以及图案形状,以及优良的耐热变色性。应用该放射线敏感性树脂组合物的树脂图案膜的形成方法。该树脂图案膜与其作为电子部件用树脂膜的利用。

著录项

  • 公开/公告号CN100346229C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2007-10-31

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 日本瑞翁株式会社;

    申请/专利号CN03811985.4

  • 发明设计人 小出村顺司;东广和;

    申请日2003-09-30

  • 分类号G03F7/039(20060101);

  • 代理机构11105 北京市柳沈律师事务所;

  • 代理人张平元;赵仁临

  • 地址 日本东京都

  • 入库时间 2022-08-23 08:59:49

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2007-10-31

    授权

    授权

  • 2005-10-12

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2005-08-17

    公开

    公开

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号