法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2007-10-31
授权
授权
2005-10-12
实质审查的生效
实质审查的生效
2005-08-17
公开
公开
机译: 具有光化放射线或放射线敏感性树脂组合物的掩模坯料,光化放射线或放射线敏感性膜,光光化放射线或放射线敏感性膜,图案形成方法以及电子设备的制造方法设备
机译: 具有光化放射线或放射线敏感性树脂组合物的掩模坯料,光化放射线或放射线敏感性膜,光光化放射线或放射线敏感性膜,图案形成方法以及电子设备的制造方法设备
机译: 正型放射线敏感性树脂组合物,树脂图案膜及其形成方法以及树脂图案膜的用途