公开/公告号CN103443711B
专利类型发明专利
公开/公告日2016-10-12
原文格式PDF
申请/专利权人 日产化学工业株式会社;
申请/专利号CN201280014532.X
申请日2012-02-24
分类号
代理机构北京市中咨律师事务所;
代理人李照明
地址 日本东京都
入库时间 2022-08-23 09:47:50
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2016-10-12
授权
授权
2014-04-30
实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/40 申请日:20120224
实质审查的生效
2013-12-11
公开
公开
机译: 用于制造相同化合物的组合物和方法,用于形成的光学组分的组合物,用于光刻的膜形成组合物,抗蚀剂组合物,用于形成抗蚀剂图案的方法,用于制造辐射图案的组合物,用于制造膜的胶片,用于制造薄膜的方法,用于胶片的方法形成下层膜,用于光刻的下层膜的制造方法,抗蚀剂图案形成方法,电路图案形成方法和精制方法
机译: 化合物,其制造方法,组成,光学部件形成用组合物,光刻用膜形成用组合物,抗蚀剂组合物,抗蚀剂图案形成方法,放射线敏感性组合物,非晶膜的制造方法,光刻用下层,成膜材料,形成用组合物用于光刻的底层膜,用于光刻的底层膜的制造方法,抗蚀剂图案形成方法,电路图案形成方法和纯化方法
机译: 膜形成材料,用于光刻的膜形成组合物,用于光学成分形成的材料,抗蚀剂组合物,抗蚀剂图案形成方法,用于抗蚀剂的永久膜,辐射敏感组合物,用于制造非晶膜,膜的材料,基底膜用于光刻的底层膜形成,用于光刻的底层膜的制造方法以及电路图案形成方法