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一种基于氮氧化铪栅绝缘层室温制备的并五苯薄膜晶体管

摘要

本实用新型属于存储器技术领域,具体涉及一种基于氮氧化铪栅绝缘层室温制备的并五苯薄膜晶体管,包括栅电极、氮氧化铪绝缘层、并五苯沟道层、源电极和漏电极,所述栅电极上设置有氮氧化铪绝缘层,氮氧化铪绝缘层上设置有并五苯沟道层,并五苯沟道层上设置有源电极和漏电极。本实用新型器件尺寸小、全室温制备、器件功耗低、亚阈值电压摆幅小和开关电流比大。

著录项

  • 公开/公告号CN205911314U

    专利类型实用新型

  • 公开/公告日2017-01-25

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 云南师范大学;

    申请/专利号CN201620796882.1

  • 申请日2016-07-27

  • 分类号

  • 代理机构云南派特律师事务所;

  • 代理人叶健

  • 地址 650500 云南省昆明市呈贡区聚贤街768号云南师范大学

  • 入库时间 2022-08-22 02:07:09

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-08-14

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L29/786 授权公告日:20170125 终止日期:20170727 申请日:20160727

    专利权的终止

  • 2017-01-25

    授权

    授权

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