法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2018-08-14
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L29/786 授权公告日:20170125 终止日期:20170727 申请日:20160727
专利权的终止
2017-01-25
授权
授权
机译: 改性的氢化聚硅氧氮烷,用于形成基于二氧化硅的绝缘层的组成相同的成分,用于形成基于二氧化硅的绝缘层的成分的制备方法,基于二氧化硅的绝缘层以及用于制备二氧化硅的层的方法
机译: 改性的氢化聚硅氧氮烷,用于形成基于二氧化硅的绝缘层的组成相同的成分,用于形成基于二氧化硅的绝缘层的成分的制备方法,基于二氧化硅的绝缘层以及用于制备二氧化硅的层的方法
机译: 改性的氢化聚硅氧氮烷,用于形成包括相同成分的二氧化硅的绝缘层的成分,用于制造用于形成基于二氧化硅的绝缘层的成分的方法,用于基于二氧化硅的绝缘层的绝缘层以及用于制造二氧化硅的层的方法