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氮气氛生长氮浓度可控微氮直拉硅单晶的方法

摘要

本发明公开的氮气氛生长氮浓度可控微氮直拉硅单晶的方法包括多晶硅的融化,种籽晶,放肩、生长、收尾、冷却全过程,其特征是:先将多晶硅在高纯氩气保护下,升温融化,待多晶硅融化后,将保护气从高纯氩气转化为高纯氮气,高纯氮气的压力为5~200Torr,流量在1~200 l/min,在氮气通入1~600分钟后,再转换为高纯氩气保护,直至硅晶体生长完成。采用本发明方法生产微氮硅单晶成本低,质量好,可以控制大直径硅单晶中氮的浓度,能够实现大规模生产,特别适用于8~12英寸以上微氮硅单晶的制备。

著录项

  • 公开/公告号CN1190529C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2005-02-23

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 浙江大学;

    申请/专利号CN02151128.4

  • 申请日2002-12-02

  • 分类号C30B27/00;

  • 代理机构杭州求是专利事务所有限公司;

  • 代理人韩介梅

  • 地址 310027 浙江省杭州市西湖区玉古路20号

  • 入库时间 2022-08-23 08:57:19

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2009-08-12

    专利实施许可合同的备案 合同备案号:2009320000959 让与人:浙江大学 受让人:镇江大成硅科技有限公司 发明名称:氮气氛生长氮浓度可控微氮直拉硅单晶的方法 授权公告日:20050223 许可种类:独占许可 备案日期:2009.5.20 合同履行期限:2009.5.18至2014.4.1合同变更 申请日:20021202

    专利实施许可合同的备案

  • 2005-02-23

    授权

    授权

  • 2003-08-27

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2003-06-11

    公开

    公开

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