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利用双缝干涉法测量光学薄膜厚度的装置实现测量光学薄膜厚度的方法

摘要

利用双缝干涉法测量光学薄膜厚度的装置实现测量光学薄膜厚度的方法,涉及测量光学薄膜厚度的装置及方法。它是为了解决现有的光学薄膜厚度的方法的测量精度低的问题。其装置:垂直入射至挡光板的偏振光束覆盖挡光板上的一号狭缝和二号狭缝,该偏振光束经待测光学薄膜透射并经一号狭缝出射形成第一束偏振光;该偏振光束二号狭缝出射形成第二束偏振光;第一束偏振光和第二束偏振光均入射至CCD探测器的探测面上,并形成干涉条纹,CCD探测器的探测面与挡光板相互平行。其方法:任取一段干涉条纹与光强公式进行拟合,获得待测光学薄膜引起的光程差,进而获得待测光学薄膜的厚度。本发明适用于测量光学薄膜厚度。

著录项

  • 公开/公告号CN102607435B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2014-04-02

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 黑龙江工程学院;

    申请/专利号CN201210084551.1

  • 申请日2012-03-27

  • 分类号

  • 代理机构哈尔滨市松花江专利商标事务所;

  • 代理人张宏威

  • 地址 150050 黑龙江省哈尔滨市道外区红旗大街999号

  • 入库时间 2022-08-23 09:18:34

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-04-17

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G01B 11/06 授权公告日:20140402 终止日期:20170327 申请日:20120327

    专利权的终止

  • 2014-04-02

    授权

    授权

  • 2014-04-02

    授权

    授权

  • 2012-09-26

    实质审查的生效 IPC(主分类):G01B 11/06 申请日:20120327

    实质审查的生效

  • 2012-09-26

    实质审查的生效 IPC(主分类):G01B 11/06 申请日:20120327

    实质审查的生效

  • 2012-07-25

    公开

    公开

  • 2012-07-25

    公开

    公开

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