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公开/公告号CN114230825A
专利类型发明专利
公开/公告日2022-03-25
原文格式PDF
申请/专利权人 日东电工株式会社;
申请/专利号CN202111051195.9
发明设计人 中原步梦;
申请日2021-09-08
分类号C08J5/18(20060101);C08L69/00(20060101);B29C55/16(20060101);G02B5/30(20060101);
代理机构11277 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙);
代理人刘新宇;李茂家
地址 日本大阪府
入库时间 2023-06-19 14:40:39
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2022-03-25
公开
发明专利申请公布
机译:薄膜图案形成方法,薄膜叠层和隧道磁阻元件
机译:多孔阀金属薄膜,其制造方法和薄膜电容器
机译:多孔阀金属薄膜,制造相同和薄膜电容器的方法
机译:通过自旋极化STM通过Fe合金化对层间抗磁MN(001)超薄膜的非线性磁性结合表达的可视化
机译:Characterization of the Solute Transport Properties of the Active Layers of Polyamide Thin Film Composite Membranes =聚酰胺薄膜复合膜活性层溶质输运性质的表征
机译:阐明使用β辐射核的梯度薄膜方法的偏振产生机理