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一种微区测量纳米材料光学增益系数的测量方法及测量系统装置

摘要

本申请提供了一种微区测量纳米材料光学增益系数的测量方法及测量系统装置,所述的测量方法包括:控制脉冲激光依次穿过凸透镜、小孔、柱面透镜和可调狭缝后形成条纹光斑,通过显微物镜使条纹光斑聚焦至待测纳米材料上;通过光学显微镜观察条纹光斑图像,并通过可调狭缝改变条纹光斑长度,分别测试不同长度的条纹光斑下的待测纳米材料的放大自发辐射光谱强度;根据放大自发辐射光谱强度与条纹光斑长度的曲线关系拟合得到待测纳米材料的光学增益系数。本申请可实现微区操作,可以获得更加精确的条纹光斑长度,条纹变化的步长更小,可获得更多指数区数据点,从而得到更加精确的光学增益系数。

著录项

  • 公开/公告号CN112924392A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-06-08

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 国家纳米科学中心;

    申请/专利号CN202110164408.2

  • 发明设计人 刘新风;杜文娜;吴宪欣;张帅;

    申请日2021-02-05

  • 分类号G01N21/17(20060101);G01N21/25(20060101);G01N21/01(20060101);

  • 代理机构11332 北京品源专利代理有限公司;

  • 代理人巩克栋

  • 地址 100190 北京市海淀区中关村北一条11号

  • 入库时间 2023-06-19 11:19:16

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2023-07-14

    授权

    发明专利权授予

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