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公开/公告号CN112041993A
专利类型发明专利
公开/公告日2020-12-04
原文格式PDF
申请/专利权人 硅存储技术股份有限公司;
申请/专利号CN201980026190.5
发明设计人 周锋;金珍浩;X·刘;S·乔尔巴;C·德科贝尔特;N·多;
申请日2019-01-31
分类号H01L29/788(20060101);
代理机构31100 上海专利商标事务所有限公司;
代理人陈斌
地址 美国加利福尼亚州
入库时间 2023-06-19 09:06:00
机译: 鳍式场效应晶体管存储单元,鳍式场效应晶体管存储单元布置以及制造鳍式场效应晶体管存储单元的方法
机译: 鳍式场效应晶体管存储单元,鳍式场效应晶体管存储单元阵列的制造方法和鳍式场效应晶体管存储单元
机译: 具有集成的高k金属栅逻辑器件和无金属擦除栅的非易失性分裂栅存储单元及其制造方法
机译:具有分离的包含不同隧穿氧化物厚度的双栅鳍式场效应晶体管结构的纳米级两比特非常规型氧化硅-氮化物-氧化硅-硅非易失性存储器件的仿真
机译:使用中性束各向异性氧化工艺制造具有不对称氧化栅厚度的四端鳍式场效应晶体管
机译:使用具有均匀功函数的非晶金属栅抑制双栅鳍式场效应晶体管的阈值电压变化
机译:通过与方向有关的刻蚀和电子束光刻技术制造鳍式双栅MOSFET(FXMOS)结构
机译:设计和生产采用HIGFET技术的高速采样器(具有异质结构和隔离栅的场效应晶体管)。
机译:一次性编程非易失性存储器中使用的单个多晶硅栅全能无结鳍式场效应晶体管
机译:用于集成电路的互补Gaas结栅控异质结构场效应晶体管制造