浸没式光刻机基底台系统、浸没式光刻机

摘要

本发明提供的浸没式光刻机基底台系统及浸没式光刻机，在浸没式光刻机基底台系统中设置两个可以移动的分动台，在分动台的侧边上设置伸缩桥装置，该伸缩桥装置伸长时可与另一个分动台的侧边接合，这样当投影物镜以及浸没液体在一个分动台上光刻完成后，可以经过伸长后的伸缩桥装置移动至另一个分动台，也就是说伸缩桥装置在两个分动台之间为浸没液体提供的垂向支撑，而浸没液体在投影物镜下本身通过磁力可维持水平方向的形状，使用包含这种浸没式光刻机基底台系统的光刻机，使得光刻时两个分动台上的光刻可以无缝衔接，提高了生产效率。