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一种电控GaAs/AlGaAs半导体量子点势阱的方法

摘要

本发明公开了一种电控GaAs/AlGaAs半导体量子点势阱的方法,包括:通过控制电极电压,将GaAs/AlGaAs异质结中的二维电子气形成量子点区域;针对量子点对称性和势阱形状的需求,在量子点区域上方,将电控势阱金属电极制备为与量子点区域大小相当的不同形状;使用半导体加工中的图形转移方法,将电控势阱金属电极制备到GaAs/AlGaAs异质结栅极电控量子点样品上;对于制备好的GaAs/AlGaAs异质结栅极电控量子点样品;如果为n型掺杂的半导体量子点样品,则在电控势阱金属电极上施加正电压来吸附电子;如果为p型掺杂的半导体量子点样品,则在金属电极上施加负电压来吸附空穴,从而产生不同种类的量子点。该方法通过顶栅电极的设计,加工制备的电控量子点势阱门电极具有良好的可操控性。

著录项

  • 公开/公告号CN108428627A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-08-21

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国科学技术大学;

    申请/专利号CN201810265693.5

  • 申请日2018-03-28

  • 分类号H01L21/18(20060101);H01L29/205(20060101);

  • 代理机构11260 北京凯特来知识产权代理有限公司;

  • 代理人郑立明;郑哲

  • 地址 230026 安徽省合肥市包河区金寨路96号

  • 入库时间 2023-06-19 06:16:00

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-09-14

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L21/18 申请日:20180328

    实质审查的生效

  • 2018-08-21

    公开

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