法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2018-09-14
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L21/18 申请日:20180328
实质审查的生效
2018-08-21
公开
公开
机译: /异质结半导体器件的GaAs / AlGaAs选择性刻蚀方法和使用GaAs / AlGaAs选择性刻蚀方法制造p-HEMT的方法
机译: AlGaAs基半导体激光器的制造方法,AlGaAs基半导体器件的制造方法和化合物半导体生长方法
机译: 利用AlGaAs插入层调节InGaAs量子点发射波长的方法。