公开/公告号CN107851576A
专利类型发明专利
公开/公告日2018-03-27
原文格式PDF
申请/专利权人 瓦里安半导体设备公司;
申请/专利号CN201680042951.2
申请日2016-07-14
分类号H01L21/3065(20060101);H05H1/46(20060101);H01L21/02(20060101);H01L21/3213(20060101);
代理机构11205 北京同立钧成知识产权代理有限公司;
代理人杨贝贝;臧建明
地址 美国麻萨诸塞州格洛斯特郡都利路35号
入库时间 2023-06-19 04:55:20
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2018-04-20
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L21/3065 申请日:20160714
实质审查的生效
2018-03-27
公开
公开
机译: 使用定向等离子体和使用点化学的衬底处理设备和技术
机译: 使用定向等离子体和使用化学方法处理基材的设备和技术
机译: 使用定向等离子体和使用化学方法处理基材的设备和技术