首页> 中国专利> 提供纳米级、高度选择性和热弹性硅、锗或硅-锗蚀刻终止层的系统和方法

提供纳米级、高度选择性和热弹性硅、锗或硅-锗蚀刻终止层的系统和方法

摘要

本发明涉及一种方法和所得的包含硅-锗层和所述硅-锗层内的掺杂剂层的蚀刻终止层。所述硅-锗层包含小于约70%的锗且含有选自由硼和碳组成的群组的一种或一种以上掺杂剂元素。所述掺杂剂层具有所述掺杂剂元素中的一种或一种以上和小于50纳米的FWHM厚度值。

著录项

  • 公开/公告号CN101536156A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2009-09-16

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 爱特梅尔公司;

    申请/专利号CN200780040638.6

  • 发明设计人 达尔文·G·伊尼克斯;

    申请日2007-10-08

  • 分类号H01L21/30;H01L23/58;

  • 代理机构北京律盟知识产权代理有限责任公司;

  • 代理人孟锐

  • 地址 美国加利福尼亚州

  • 入库时间 2023-12-17 22:36:00

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2011-06-15

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):H01L21/30 公开日:20090916 申请日:20071008

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2009-12-16

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2009-09-16

    公开

    公开

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号