法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2009-05-06
发明专利申请公布后的驳回
发明专利申请公布后的驳回
2006-12-13
实质审查的生效
实质审查的生效
2006-10-18
公开
公开
机译: 能够防止N型和P型MOS晶体管区域的多晶硅耗尽率降低的双栅极杂质掺杂方法及其双栅极形成方法
机译: 在完全耗尽的绝缘体上硅上使用氮氧化硅多晶硅栅极叠层的金属氧化物半导体场效应晶体管中的阈值电压调整
机译: 包括分裂多晶硅-锗硅/多晶硅-硅合金栅极堆叠的场效应晶体管及其包括的半导体器件