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降低多晶耗尽效应的制作多晶硅栅极晶体管的方法

摘要

一种制作多晶硅栅极晶体管的方法,首先提供一基底;在该基底表面上形成栅极介电层;在该栅极介电层上沉积多晶硅层;将非晶硅化物种注入该多晶硅层中,藉此将该多晶硅层的上部非晶硅化;进行离子掺杂,将离子注入该多晶硅层中;对该多晶硅层进行退火,同时活化注入该多晶硅层中的该离子;将该多晶硅层蚀刻成栅极结构;在该栅极结构两侧的该基底中形成漏极/源极。

著录项

  • 公开/公告号CN1848390A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2006-10-18

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 联华电子股份有限公司;

    申请/专利号CN200510062883.X

  • 申请日2005-04-05

  • 分类号H01L21/336(20060101);H01L21/8234(20060101);

  • 代理机构11105 北京市柳沈律师事务所;

  • 代理人陶凤波;侯宇

  • 地址 台湾省新竹科学工业园区

  • 入库时间 2023-12-17 17:46:56

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2009-05-06

    发明专利申请公布后的驳回

    发明专利申请公布后的驳回

  • 2006-12-13

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2006-10-18

    公开

    公开

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