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晶圆凸块及晶圆凸块的制造方法

摘要

本发明提供了一种晶圆凸块及晶圆凸块的制造方法,所述晶圆凸块包括位于底部的半导体基材、位于所述半导体基材上的线路层、位于所述线路层上方的第一金属层和第二金属层,所述第一金属层位于所述第二金属层和所述线路层之间,所述晶圆凸块还包括围绕所述第一金属层侧面设置的第一光刻胶、位于所述第一金属层和所述线路层之间的隔绝层,所述第一光刻胶的高度不低于第一金属层的高度。本发明的晶圆凸块可以防止第一金属层氧化。本发明的晶圆凸块的制造方法,工艺简单,制得的晶圆凸块抗氧化性高,且可以抵抗两种金属之间存在电位差而造成的贾凡尼效应。

著录项

  • 公开/公告号CN111384016A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-07-07

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 颀中科技(苏州)有限公司;

    申请/专利号CN201811629014.4

  • 发明设计人 陈浩;

    申请日2018-12-28

  • 分类号

  • 代理机构苏州威世朋知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人姚锦程

  • 地址 215000 江苏省苏州市工业园区凤里街166号

  • 入库时间 2023-12-17 10:08:05

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-07-31

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L23/488 申请日:20181228

    实质审查的生效

  • 2020-07-07

    公开

    公开

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