公开/公告号CN110268514A
专利类型发明专利
公开/公告日2019-09-20
原文格式PDF
申请/专利权人 京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司;
申请/专利号CN201780002294.3
申请日2017-11-21
分类号H01L21/68(20060101);
代理机构11112 北京天昊联合知识产权代理有限公司;
代理人姜春咸;陈源
地址 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号
入库时间 2024-02-19 15:12:07
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2019-10-22
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L21/68 申请日:20171121
实质审查的生效
2019-09-20
公开
公开
机译: 等离子处理装置包括用于处理基板的真空系统和用于感应地产生等离子的微波谐振器,该微波谐振器呈现出具有连续开口的导电基底,该基底接收等离子
机译: 在基底上产生纳米结构的方法包括通过离子辐照基底的限定表面,将辐照的基底引入过饱和溶液中以及除去基底形式的溶液。
机译: 在基底上产生纳米结构的方法包括通过离子辐照基底的限定表面,将辐照的基底引入过饱和溶液中以及除去基底形式的溶液。