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接近销、基底处理装置及在基底处理装置中处理基底的方法

摘要

一种用于在基底处理装置中支撑基底(8)的接近销(10),包括销头部(1)和支撑垫部(6)。所述销头部(2)构造为在所述基底处理装置中支撑所述基底(8),并且包括第一端(E1)和与第一端(E1)相对的第二端(E2)。所述第一端(E1)构造为与放置在所述接近销(10)上的所述基底(8)接触。所述支撑垫部(6)在所述销头部(1)的第二端(E2)连接至所述销头部(1),并且所述支撑垫部的直径大于所述销头部(1)最大直径的直径。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-10-22

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L21/68 申请日:20171121

    实质审查的生效

  • 2019-09-20

    公开

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