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机译:偏振照明对45 nm节点ArF浸没光刻法中高NA成像的影响
Immersion lithography; Polarized illumination; Normalized image log slope; Exposure defocus window;
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机译:用193nm浸没式光刻成像干涉光刻和偶极子照明对45nm半节距节点进行仿真
机译:分辨率增强技术对45 nm节点ArF浸没式光刻术像差灵敏度的影响
机译:45 nm节点的掩模规格:浸没式光刻和偏振光成像的影响
机译:使用相移掩模在高数值孔径光刻中表征偏振照明。
机译:浸入米拉·干涉测量在EPI照明几何形状中没有标记的活细胞成像
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机译:X射线光刻中图像质量的光照和衍射效应建模与实验验证