机译:用193nm浸没式光刻成像干涉光刻和偶极子照明对45nm半节距节点进行仿真
Imaging interferometric lithography; Dipole illumination; Immersion lithography; 45-nm half-pitch; Polarization effects in lithography;
机译:用193nm浸没式光刻成像干涉光刻和偶极子照明对45nm半节距节点进行仿真
机译:用193nm浸没式光刻成像干涉光刻和偶极子照明对45nm半节距节点进行仿真
机译:193 nm浸没式光刻技术在65 nm节点处自由度对NA /σ依赖性的仿真研究
机译:用193nm浸没光刻技术模拟45nm半间距节点
机译:浸没式光刻的热流体模拟。
机译:偏振照明对45nm节点ArF浸没光刻法中高NA成像的影响