...
首页> 外文期刊>Физика и техника полупроводников >МОЛЕКУЛЯРНО-ПУЧКОВАЯ ЭПИТАКСИЯ ГИБРИДНЫХ ALGAAS/ ZN(MN)SE НАНОСТРУКТУР С КВАНТОВЫМИ ТОЧКАМИ INAS/ALGAAS ВБЛИЗИ ГЕТЕРОВАЛЕНТНОГО ИНТЕРФЕЙСА
【24h】

МОЛЕКУЛЯРНО-ПУЧКОВАЯ ЭПИТАКСИЯ ГИБРИДНЫХ ALGAAS/ ZN(MN)SE НАНОСТРУКТУР С КВАНТОВЫМИ ТОЧКАМИ INAS/ALGAAS ВБЛИЗИ ГЕТЕРОВАЛЕНТНОГО ИНТЕРФЕЙСА

机译:MBE HYBRID的AlGaAs / ZN(MN)SE纳米结构的量子点INAS /的AlGaAs NEAR Heterovalent INTERFACE

获取原文
获取原文并翻译 | 示例
           

摘要

Изучены особенности роста методом молекулярно-пучковой эпитаксии квантовых точек InAs в матрице Al0.35Ga0.65As в зависимости от температуры подложки, скорости осаждения и количества осажденного InAs. Определены оптимальные условия для получения массива самоорганизующихся квантовых точек с низкой плотностью (=<2?10~(10) см~(-2)) и малыми размерами (высота менее 4 нм). Продемонстрирована возможность формирования оптически активных квантовых точек InAs, излучающих в диапазоне энергий 1.3-1.4 эВ, на расстоянии не более 10 нм от когерентного гетеровалентного интерфейса GaAs/ZnSe. Установлено, что вставка в верхний барьерный слой AlGaAs оптически неактивной квантовой ямы GaAs (5 нм), туннельно-связанной с квантовыми точками InAs, улучшает эффективность фотолюминесценции массива квантовых точек в гибридных гетероструктурах.
机译:根据基材的温度,沉积速率和沉淀的InAs的量进行研究,研究了Al0.35Ga0.65AS基质中InAS量子点的分子束外延的生长特征。确定最佳条件以获得具有低密度的自组织量子点阵列(= <2≤10〜(10)cm〜(-2))和小尺寸(高度小于4nm)。在相干的异常GaAs / ZnSE接口中,对形成在1.3-1.4eV的能量范围内的光学活性量子INA点的可能性。已经确定,插入AlGaAs光学不活性GaAs量子凹坑(5nm)的上部阻挡层,隧道相关的InAs量子点,提高了杂交异质结构中量子点阵列的光致发光的效率。

著录项

  • 来源
  • 作者单位

    Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук;

    Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук;

    Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук;

    Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук;

    Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук;

    Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук;

    Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук;

    Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук;

    Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук;

    Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук;

    Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук;

  • 收录信息
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 rus
  • 中图分类 半导体物理学;
  • 关键词

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号