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【24h】

IBM Alliance Develops 32 nm High-k/Metal Gate SRAM

机译:IBM Alliance开发32 nm高k /金属门SRAM

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摘要

IBM Corp. (Armonk, N.Y.) has developed a test SRAM array using 32 nm high-k/metal gate process technology, an achievement that puts IBM and its Fishkill alliance development partners on track to introduce 32 nm technology in the second half of 2009. Gary Patton, vice president of IBM's Semiconductor Research and Development Center in Fishkill, N.Y., said high-k/metal gate technology will become available not only to the Fishkill alliance development partners, but also to fabless design teams that use one of the alliance partners to foundry their 32 nm designs.
机译:IBM公司(纽约州阿蒙克)已开发出一种使用32 nm高k /金属栅极工艺技术的测试SRAM阵列,这一成就使IBM及其Fishkill联盟开发合作伙伴有望在2009年下半年推出32 nm技术。纽约州菲什基尔市IBM半导体研发中心副总裁加里·帕顿(Gary Patton)表示,高k /金属门技术将不仅适用于菲什基尔联盟的开发合作伙伴,而且适用于使用该联盟之一的无晶圆厂设计团队合作伙伴代工他们的32 nm设计。

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