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杨英惠(摘译);
SRAM; 金属栅; IBM; 联盟; 可变性; 电介质; 工艺; 项目组;
机译:SOI称32nm高k /金属栅极SRAM
机译:使用具有多个V_T栅堆叠的高k /金属栅FinFET技术研究10nm SRAM上的BTI特性及其行为
机译:32nm高/金属栅CMOS中主要统计变异源的仿真研究
机译:具有恒定负电平写缓冲器的可配置SRAM,可在32nm高 k inf>金属栅CMOS中以0.149µm 2 sup>单元进行低压操作
机译:降低高κ/金属栅叠层表面制备工艺对环境的影响。
机译:全方位栅InAs纳米线金属氧化物半导体场效应晶体管中的高度栅可调Rashba自旋轨道相互作用
机译:金属栅电极和用于子32nm散装CMOS技术的高电胶:用于低阈值电压器件应用的氧化镧覆盖层的应用
机译:公路桥梁维修,修复和更换优化策略的研制。总结报告。第1卷。印第安纳州桥梁管理系统(IBms)的要素。执行摘要(修订)
机译:形成包括高k金属栅电极结构的晶体管的方法,该高k金属栅电极结构包括多晶半导体材料和嵌入的应变诱发半导体合金
机译:用于在高k介电薄膜上沉积金属栅并改善高k介电膜与金属栅界面的基质处理系统
机译:具有集成的高k金属栅逻辑器件和无金属擦除栅的非易失性分裂栅存储单元及其制造方法
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