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波長選択スイッチにおける電気干渉低減MEMSミラーアレイの作製

机译:减少波长选择开关中电干扰的MEMS反射镜阵列的制造

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摘要

This paper describes the fabrication of a MEMS mirror array with low electrical interference in a wavelength-selective switch (WSS). A MEMS mirror array chip is fabricated with 100% yield by encapsulating the mirrors with an organic film that protect them from process damage. A mirror-drive electrode chip has high-aspect-ratio electrical isolation walls in the narrow space between adjacent mirror-drive electrodes by using thick-multilevel interconnection technology. Shield caps are made by anisotropic etching of Si (111). Because of the electrical isolation effect of the walls and caps, each MEMS mirror operates with low electrical interference.%本稿は波長選択スイッチ(WSS)における電気干渉低減MEMSミラーアレイの作製に関する報告である.ミラーチップに関しては,ミラーを有機樹脂膜で被覆することによって,100%歩留まりで作製することを実現している.電極チップに関しては,厚膜多層配線技術を用いることによって,狭小空間に高アスペクト比の電気干渉壁を形成している.また,シールドキャップに関しては,Si(111)面の異方性エッチングによりSiのⅤ溝を形成している.電極チップの電気干渉壁とシールドキャップの電界分離効果によって,各ミラーは電気干渉を受けることなく動作することを確認している.
机译:本文介绍了一种在波长选择开关(WSS)中具有低电干扰的MEMS反射镜阵列的制造方法.MEMS反射镜阵列芯片是通过用有机膜封装这些反射镜来保护其免受工艺损害而以100%的成品率制造的。镜驱动电极芯片通过使用厚多层互连技术在相邻镜驱动电极之间的狭窄空间中具有高纵横比的电隔离壁。屏蔽盖是通过对Si(111)进行各向异性刻蚀制成的。本文是有关在波长选择开关(WSS)中减少电干扰的MEMS反射镜阵列的制造的报告,对于反射镜芯片,该反射镜由有机树脂膜制成。通过涂布可以制造100%的成品率,在电极芯片中使用厚膜多层布线技术,可以在狭窄的空间内形成纵横比高的电干涉壁。关于屏蔽罩,通过对Si(111)表面进行各向异性蚀刻而形成SiV槽,电极头的电干扰壁和屏蔽罩的电场分离效果使各反射镜受到电干扰。我已经确认它没有任何作用。

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