机译:在Al2O3 / In0.53Ga0.47As界面处Ga-O签名与中间能隙状态之间的相关性
The Russell Berrie Nanotechnology Institute, Technion – Israel Institute of Technology, Haifa 32000, Israel;
机译:AI_2O_3 / In_(0.53)Ga_(0.47)As接口的Ga-0签名与中间能隙状态之间的相关性
机译:基于气隙电容-电压法的原子层沉积Al2O3 / In0.53Ga0.47As界面形成机理的研究
机译:介电/ InGaAs界面中弱反转峰与中能隙状态之间相关性的实验证据
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机译:硒化铁的不对称砷化镓量子点接触中的电子相关性和自旋以及结构跃迁的特征。
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机译:对(NH4)(2)S钝化(22%,10%,5%或1%)的Al2O3 / In0.53Ga0.47As / InP系统的n型和p型钝化性能的系统研究In0.53Ga0.47As外延层