圆柱谐振腔式MPCVD装置中氢、氩微波等离子体分布规律的数值模拟

摘要

在使用简化的等离子体放电模型的基础上,模拟了圆柱谐振腔式微波等离子体沉积室中,不同金刚石膜生长条件下微波等离子体的分布状态.在模拟中,针对纳米金刚石的生长环境,就纯氩气反应气体中,不同的输人功率、不同气体压力条件下,沉积室中形成的等离子体分布的变化规律进行了模拟,将其与一般氢气气氛下的相应模拟结果相对比.模拟所获得的结果,对微波等离子体方法沉积金刚石膜的操作环境的优化,有着一定的指导意义.