射频磁控室温溅射(Pb,La)TiO_3薄膜退火前后的原子力显微镜分析

摘要

采用射频磁控溅射技术在室温溅射((Pb,La)TiO3(PLT)薄膜,在600℃下退火2h,通过其XRD谱图和AFM照片分析,发现薄膜结晶良好,已形成均匀、连续、致密、表面平滑的完全钙钛矿结构的PLT铁电薄膜,退火对薄膜表面的粗糙度影响不大,薄膜的表面粗糙度主要由淀积过程决定。